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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第302位 108件 (2023年:第247位 148件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第342位 88件 (2023年:第307位 105件)
(ランキング更新日:2025年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-32869 | 硬化膜の製造方法、およびその使用 | 2024年 3月12日 | |
特開 2024-28921 | ヘテロ芳香族化合物 | 2024年 3月 5日 | |
特表 2024-509148 | アミド-イミド-延長ビスマレイミドに基づく誘電材料 | 2024年 2月29日 | |
特表 2024-508264 | ゲスト化合物被験物質(guest analyte compound)の分子構造を決定する方法において、ゲスト化合物被験物質を含む結晶性多核金属錯体を使用するための、ゲスト化合物被験物質を結晶性多核金属錯体に導入する条件の選択方法 | 2024年 2月26日 | |
特開 2024-23276 | シクロペンタジエニル配位子を含む金属錯体 | 2024年 2月21日 | |
特表 2024-507043 | レジスト膜厚膜化組成物および厚膜化パターンの製造方法 | 2024年 2月16日 | |
特表 2024-507177 | 金属含有薄膜を堆積するための第6族アミジネートパドルホイール型化合物 | 2024年 2月16日 | |
特表 2024-506743 | 組成物 | 2024年 2月14日 | |
特開 2024-19298 | ポリカルボシラザンおよびそれを含む組成物、ならびにそれを用いたケイ素含有膜の製造方法 | 2024年 2月 8日 | |
特表 2024-505321 | 犠牲層の上部を除去する方法、それに用いられる犠牲溶液および酸性水溶液 | 2024年 2月 6日 | |
特表 2024-504644 | 無極性溶媒と極性溶媒との混合物を用いて溶媒和された溶媒和結晶性多核金属錯体、ゲスト化合物検体を含む斯かる溶媒和結晶性多核金属錯体、及びそのゲスト化合物検体の分子構造を決定する方法におけるその使用 | 2024年 2月 1日 | |
特表 2024-504080 | ポリシラザンハードコーティング組成物 | 2024年 1月30日 | |
特開 2024-9784 | 液晶媒体 | 2024年 1月23日 | |
特開 2024-9877 | 液晶媒体 | 2024年 1月23日 | |
特表 2024-502353 | 改善されたパターンプロファイル及び焦点深度(DOF)を有するポジ作動型フォトレジスト組成物 | 2024年 1月18日 |
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2024-32869 2024-28921 2024-509148 2024-508264 2024-23276 2024-507043 2024-507177 2024-506743 2024-19298 2024-505321 2024-504644 2024-504080 2024-9784 2024-9877 2024-502353
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1月9日(木) -
1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月9日(木) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
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