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エフ・イ−・アイ・カンパニー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第918位 34件
（
2012年：第2735位 7件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2127位 10件
（
2012年：第1784位 13件）
（ランキング更新日：2026年2月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5371142 | マルチソース型のプラズマ集束イオン・ビーム・システム | 2013年12月18日 | |
| 特許 5350605 | サンプルの作製 | 2013年11月27日 | |
| 特許 5337974 | 微小構造を修正するためのスタイラス・システム | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5301168 | 冷電界エミッタ | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5285036 | 小型の走査型電子顕微鏡 | 2013年 9月11日 | |
| 特許 5285833 | 微細構造を改修するためのシステム | 2013年 9月11日 | |
| 特許 5266236 | サンプル抽出および取り扱いのための方法および装置 | 2013年 8月21日 | |
| 特許 5270558 | Ｓ／ＴＥＭのサンプルを作成する方法およびサンプル構造 | 2013年 8月21日 | |
| 特許 5139679 | 冷陰極イオン真空計 | 2013年 2月 6日 | |
| 特許 5112181 | 高解像度プラズマ・エッチング | 2013年 1月 9日 |
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5371142 5350605 5337974 5301168 5285036 5285833 5266236 5270558 5139679 5112181
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