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エフ・イ−・アイ・カンパニー
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第2911位 6件
（
2017年：第1790位 12件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第930位 22件
（2017年：第872位 25件）
（ランキング更新日：2026年10月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6437652 | 材料特性評価のための断層撮影再構成 | 2018年12月12日 | |
| 特許 6429780 | 多次元構造体アクセス | 2018年11月28日 | |
| 特許 6411022 | 真空室内で微少流体を分配して構造体を形成する方法 | 2018年10月24日 | |
| 特許 6396038 | 高スループットのサンプル作製のためのナノマニピュレータに対する複数のサンプルの付着 | 2018年 9月26日 | |
| 特許 6393448 | ＴＥＭ／ＳＴＥＭトモグラフィ連続傾斜の取得および位置合せのための基準マーク形成 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6393446 | 集束イオン・ビームを使用した半導体デバイスの平面デプロセッシング用の前駆体 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6393445 | 蛍光マーカの原位置再活性化 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6385899 | ＴＥＭ試料取付け構造 | 2018年 9月 5日 | |
| 特許 6372948 | 試料の自動配向 | 2018年 8月15日 | |
| 特許 6366216 | ＴＥＭ画像化用の薄い試料を作製する方法 | 2018年 8月 1日 | |
| 特許 6364150 | 自動化された鉱物分類 | 2018年 7月25日 | |
| 特許 6359351 | 平面視試料の調製 | 2018年 7月18日 | |
| 特許 6356397 | 基板の外位置分析システムおよび方法 | 2018年 7月11日 | |
| 特許 6341680 | 集束イオン・ビームの低ｋＶ強化 | 2018年 6月13日 | |
| 特許 6341645 | 粒子ビーム・カラムと一体のリターディング電界型分析器 | 2018年 6月13日 |
22 件中 1-15 件を表示
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6437652 6429780 6411022 6396038 6393448 6393446 6393445 6385899 6372948 6366216 6364150 6359351 6356397 6341680 6341645
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