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エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第2350位 9件
（
2020年：第1158位 22件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第1475位 12件
（2020年：第1162位 16件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2021-534440 | 描画点を露光するための方法および装置 | 2021年12月 9日 | |
| 特開 2021-184112 | 感光性の層を露光するための装置および方法 | 2021年12月 2日 | |
| 特表 2021-529682 | スタンプおよび型押し加工するための方法 | 2021年11月 4日 | |
| 特表 2021-517960 | マークフィールドならびにポジションを特定する方法および装置 | 2021年 7月29日 | |
| 特開 2021-100131 | ２つの基板をボンディングするための装置および方法 | 2021年 7月 1日 | |
| 特開 2021-93547 | 基板のボンディング装置及び方法 | 2021年 6月17日 | |
| 特開 2021-61430 | 基板を接合する装置および方法 | 2021年 4月15日 | |
| 特開 2021-44573 | 基板を位置合わせする方法および装置 | 2021年 3月18日 | |
| 特開 2021-22751 | 基板をボンディングする方法 | 2021年 2月18日 |
9 件中 1-9 件を表示
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2021-534440 2021-184112 2021-529682 2021-517960 2021-100131 2021-93547 2021-61430 2021-44573 2021-22751
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