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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第573位 66件
(
2012年:第570位 60件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第874位 34件
(
2012年:第926位 32件)
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-246441 | ネガ型フォトレジストを除去する方法 | 2013年12月 9日 | |
| 特開 2013-241593 | ポリスチレン−ポリアクリラートブロックコポリマー、その製造方法、およびそれを含む物品 | 2013年12月 5日 | 共同出願 |
| 特開 2013-232389 | 透明導電性物品 | 2013年11月14日 | |
| 特開 2013-232016 | 光酸発生剤のブレンドを含むフォトレジスト組成物 | 2013年11月14日 | |
| 特開 2013-229596 | pH感受性用途のための金属めっき | 2013年11月 7日 | |
| 特開 2013-228750 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2013年11月 7日 | |
| 特開 2013-216975 | めっき浴および方法 | 2013年10月24日 | 共同出願 |
| 特開 2013-216971 | カーボンブラックと金属との複合体 | 2013年10月24日 | |
| 特開 2013-219122 | 金属コンタクトを形成する改良された方法 | 2013年10月24日 | 共同出願 |
| 特開 2013-185155 | メタルハードマスク組成物 | 2013年 9月19日 | |
| 特開 2013-181248 | 銀変色を妨げる方法 | 2013年 9月12日 | |
| 特開 2013-177589 | アパーチャ充填用組成物 | 2013年 9月 9日 | |
| 特開 2013-174883 | フォトリソグラフィーの組成物および方法 | 2013年 9月 5日 | |
| 特開 2013-174009 | スズおよびスズ合金のための改良されたフラックス方法 | 2013年 9月 5日 | |
| 特開 2013-175723 | 熱アニーリング方法 | 2013年 9月 5日 | 共同出願 |
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2013-246441 2013-241593 2013-232389 2013-232016 2013-229596 2013-228750 2013-216975 2013-216971 2013-219122 2013-185155 2013-181248 2013-177589 2013-174883 2013-174009 2013-175723
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