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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第1079位 22件
(2023年:第1102位 23件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第1722位 11件
(2023年:第1078位 20件)
(ランキング更新日:2025年2月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-546333 | シリコーン処理用途のためのコーティング組成物 | 2024年12月19日 | |
特開 2024-170303 | 化合物、モノマー、ポリマー、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 | 2024年12月 6日 | |
特開 2024-137865 | 光画像化可能な誘電体 | 2024年10月 7日 | |
特開 2024-137866 | 樹脂組成物 | 2024年10月 7日 | |
特開 2024-124463 | フォトレジストトップコート組成物及びパターン形成方法 | 2024年 9月12日 | |
特開 2024-123050 | ヨウ素含有酸開裂性化合物、それから誘導されるポリマー、及びフォトレジスト組成物 | 2024年 9月10日 | |
特開 2024-96012 | ポリマー、それを含むフォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024年 7月11日 | |
特開 2024-96013 | コートされた容器及びこのような容器を形成する方法 | 2024年 7月11日 | |
特開 2024-96038 | フォトレジスト下層組成物及び電子デバイスを形成する方法 | 2024年 7月11日 | |
特開 2024-95589 | ポリマー、それを含むフォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024年 7月10日 | |
特開 2024-73511 | 下層組成物及びパターニング方法 | 2024年 5月29日 | |
特開 2024-70830 | ポリマー、それを含むフォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024年 5月23日 | |
特開 2024-61788 | オーバーコートフォトレジスト用のコーティングされた下層 | 2024年 5月 8日 | |
特開 2024-47566 | 粗ニッケル用ニッケル電気めっき組成物 | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-47567 | 粗ニッケル用ニッケル電気めっき組成物 | 2024年 4月 5日 |
23 件中 1-15 件を表示
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2024-546333 2024-170303 2024-137865 2024-137866 2024-124463 2024-123050 2024-96012 2024-96013 2024-96038 2024-95589 2024-73511 2024-70830 2024-61788 2024-47566 2024-47567
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2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月17日(月) - 大阪 大阪市
(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
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