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ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー．
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2023年：第1101位 23件）
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2023年：第1075位 20件）
（ランキング更新日：2026年10月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2024-546333 | シリコーン処理用途のためのコーティング組成物 | 2024年12月19日 | |
| 特開 2024-170303 | 化合物、モノマー、ポリマー、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 | 2024年12月 6日 | |
| 特開 2024-137866 | 樹脂組成物 | 2024年10月 7日 | |
| 特開 2024-137865 | 光画像化可能な誘電体 | 2024年10月 7日 | |
| 特開 2024-124463 | フォトレジストトップコート組成物及びパターン形成方法 | 2024年 9月12日 | |
| 特開 2024-123050 | ヨウ素含有酸開裂性化合物、それから誘導されるポリマー、及びフォトレジスト組成物 | 2024年 9月10日 | |
| 特開 2024-96038 | フォトレジスト下層組成物及び電子デバイスを形成する方法 | 2024年 7月11日 | |
| 特開 2024-96013 | コートされた容器及びこのような容器を形成する方法 | 2024年 7月11日 | |
| 特開 2024-96012 | ポリマー、それを含むフォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024年 7月11日 | |
| 特開 2024-95589 | ポリマー、それを含むフォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024年 7月10日 | |
| 特開 2024-73511 | 下層組成物及びパターニング方法 | 2024年 5月29日 | |
| 特開 2024-70830 | ポリマー、それを含むフォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024年 5月23日 | |
| 特開 2024-61788 | オーバーコートフォトレジスト用のコーティングされた下層 | 2024年 5月 8日 | |
| 特開 2024-47567 | 粗ニッケル用ニッケル電気めっき組成物 | 2024年 4月 5日 | |
| 特開 2024-47566 | 粗ニッケル用ニッケル電気めっき組成物 | 2024年 4月 5日 |
23 件中 1-15 件を表示
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2024-546333 2024-170303 2024-137866 2024-137865 2024-124463 2024-123050 2024-96038 2024-96013 2024-96012 2024-95589 2024-73511 2024-70830 2024-61788 2024-47567 2024-47566
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