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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第579位 62件 (2016年:第508位 66件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第348位 80件 (2016年:第446位 64件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2017-226682 | 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2017年12月28日 | |
特表 2017-538007 | 超低光弾性複屈折定数を有するポリマー | 2017年12月21日 | |
特表 2017-538018 | 負の光弾性定数を有するポリマー材料 | 2017年12月21日 | |
特開 2017-222925 | メガサイズのフォトレジスト画定フィーチャを電気めっきすることが可能な電気銅めっき浴及び電気めっき方法 | 2017年12月21日 | |
特開 2017-223958 | 新規の樹脂およびこれを含むフォトレジスト組成物 | 2017年12月21日 | |
特開 2017-223961 | フォトリソグラフィ方法 | 2017年12月21日 | |
特開 2017-223977 | フォトレジスト上塗り組成物および電子デバイスを形成する方法 | 2017年12月21日 | |
特開 2017-210682 | 無錫イオン性銀含有触媒による基材のスルーホール及びビアの無電解金属被覆 | 2017年11月30日 | |
特表 2017-533575 | ポリマー電荷移送層及びそれを含む有機電子装置 | 2017年11月 9日 | |
特表 2017-533576 | 電子装置のための酸素置換ベンゾクロブテン(BENZOCLOBUTENE)由来組成物 | 2017年11月 9日 | |
特開 2017-201420 | フォトレジストおよびその使用方法 | 2017年11月 9日 | |
特表 2017-532769 | 酸素置換ベンゾシクロブテン及びジエノフィルを含む組成物、ならびにそれを含有する電子デバイス | 2017年11月 2日 | |
特開 2017-197764 | 酸不安定基を有する共重合体、フォトレジスト組成物、塗布基板、および電子デバイス形成方法 | 2017年11月 2日 | |
特表 2017-531308 | ベンゾシクロブテン置換カルバゾールを含有する組成物、及びそれを含む電子装置 | 2017年10月19日 | |
特開 2017-187792 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2017年10月12日 |
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2017-226682 2017-538007 2017-538018 2017-222925 2017-223958 2017-223961 2017-223977 2017-210682 2017-533575 2017-533576 2017-201420 2017-532769 2017-197764 2017-531308 2017-187792
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11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
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