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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第1102位 23件
(2022年:第908位 29件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第1078位 20件
(2022年:第805位 30件)
(ランキング更新日:2025年2月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2023-182701 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年12月26日 | |
特開 2023-182710 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年12月26日 | |
特開 2023-171299 | 化合物及びそれを含むフォトレジスト組成物 | 2023年12月 1日 | |
特開 2023-164351 | 誘電体用途向け複合材料 | 2023年11月10日 | |
特開 2023-164406 | 誘電体用途向けポリマー樹脂 | 2023年11月10日 | |
特開 2023-159129 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年10月31日 | |
特開 2023-156264 | 高温用途のための銀コーティング | 2023年10月24日 | |
特開 2023-152862 | 光活性化合物、それを含むフォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年10月17日 | |
特開 2023-143790 | 変色及び腐食を防止する方法 | 2023年10月 6日 | |
特開 2023-138989 | フォトレジストパターントリミング組成物及びパターン形成方法 | 2023年10月 3日 | |
特開 2023-129317 | ボイドを低減するためにスルーホールを充填する方法 | 2023年 9月14日 | |
特開 2023-121829 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年 8月31日 | |
特開 2023-100726 | フォトレジスト組成物及びこの組成物を用いてレジストパターンを形成する方法 | 2023年 7月19日 | |
特開 2023-99318 | フォトレジストトップコート組成物及びパターン形成方法 | 2023年 7月12日 | |
特開 2023-99319 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年 7月12日 |
24 件中 1-15 件を表示
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2023-182701 2023-182710 2023-171299 2023-164351 2023-164406 2023-159129 2023-156264 2023-152862 2023-143790 2023-138989 2023-129317 2023-121829 2023-100726 2023-99318 2023-99319
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2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月20日(木) - 東京 港区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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