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ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー．
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第816位 32件
（
2019年：第531位 60件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第515位 45件
（2019年：第384位 69件）
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ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2020-204047 | ケイ素含有下層を使用する方法 | 2020年12月24日 | |
| 特開 2020-201286 | 音波センサおよび気相分析物を検知する方法 | 2020年12月17日 | |
| 特開 2020-200536 | ホイスカーの抑制を改良したプレスフィット端子 | 2020年12月17日 | |
| 特開 2020-197729 | 光感応性酸発生剤およびそれらを含むフォトレジスト | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-197709 | フォトレジストパターントリミング組成物及びパターン形成方法 | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-197707 | フォトレジストパターントリミング組成物及びパターン形成方法 | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-197706 | レジスト下層組成物及び当該組成物を使用するパターン形成方法 | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-196872 | レジスト組成物、その製造方法及びそれを含む物品 | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-187352 | フォトレジスト組成物及びこの組成物を用いてレジストパターンを形成する方法 | 2020年11月19日 | |
| 特開 2020-186240 | ヨウ素含有光酸発生剤及びそれを含む組成物 | 2020年11月19日 | |
| 特開 2020-184067 | レジスト下層組成物及び当該組成物を用いたパターン形成方法 | 2020年11月12日 | |
| 特開 2020-181226 | パターン形成方法及びフォトレジストパターンオーバーコート組成物 | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-180292 | ケイ素含有下層 | 2020年11月 5日 | |
| 特開 2020-172538 | 光酸発生剤、この光酸発生剤を含むフォトレジスト、およびこれを含むコーティングされた物品 | 2020年10月22日 | |
| 特開 2020-158775 | ケイ素ベースのハードマスク | 2020年10月 1日 |
36 件中 1-15 件を表示
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2020-204047 2020-201286 2020-200536 2020-197729 2020-197709 2020-197707 2020-197706 2020-196872 2020-187352 2020-186240 2020-184067 2020-181226 2020-180292 2020-172538 2020-158775
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