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ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー．
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第908位 29件
（
2021年：第922位 27件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第803位 30件
（
2021年：第787位 27件）
（ランキング更新日：2026年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ，エル．エル．シー．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2022-183141 | フォトレジスト下層用の組成物 | 2022年12月 8日 | |
| 特開 2022-166033 | レジスト下層組成物及び当該組成物を使用するパターン形成方法 | 2022年11月 1日 | |
| 特表 2022-544171 | 破片保持ハードコーティングを備えた肉薄のフレキシブルガラスカバー | 2022年10月17日 | |
| 特開 2022-153298 | 銀電気めっき組成物、及び低い摩擦係数を有する銀を電気めっきする方法 | 2022年10月12日 | |
| 特開 2022-106295 | 非等方的に銅電気めっきすることによるフォトレジスト解像能力の改善 | 2022年 7月19日 | |
| 特開 2022-105327 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2022年 7月13日 | |
| 特開 2022-105297 | 表面均展剤として有用なポリマー、その製造方法、及びこれを含む物品 | 2022年 7月13日 | |
| 特開 2022-105281 | 光酸発生剤、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 | 2022年 7月13日 | |
| 特開 2022-104895 | フォトレジストトップコート組成物及びパターン形成方法 | 2022年 7月12日 | |
| 特開 2022-104881 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2022年 7月12日 | |
| 特開 2022-97441 | 接着促進フォトレジスト下層組成物 | 2022年 6月30日 | |
| 特開 2022-96627 | フォトレジスト下層組成物及びパターン形成方法 | 2022年 6月29日 | |
| 特開 2022-96615 | フォトレジスト下層組成物及びパターン形成方法 | 2022年 6月29日 | |
| 特開 2022-88463 | ホイスカーの抑制を改良したプレスフィット端子 | 2022年 6月14日 | |
| 特開 2022-84838 | ケイ素ベースのハードマスク | 2022年 6月 7日 |
31 件中 1-15 件を表示
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2022-183141 2022-166033 2022-544171 2022-153298 2022-106295 2022-105327 2022-105297 2022-105281 2022-104895 2022-104881 2022-97441 2022-96627 2022-96615 2022-88463 2022-84838
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