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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第566位 60件 (2018年:第476位 68件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第384位 69件 (2018年:第341位 83件)
(ランキング更新日:2024年9月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2019-218140 | 活性表面を有する容器およびそのような容器を形成する方法 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-218627 | 無電解銅めっき用組成物および基材上に銅を無電解めっきするための方法 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-218628 | 無電解銅めっき用組成物および基材上に銅を無電解めっきするための方法 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-218629 | 無電解銅めっき用組成物および基材上に銅を無電解めっきするための方法 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-219680 | パターントリミング組成物及び方法 | 2019年12月26日 | |
特開 2019-214795 | スルーホールを充填してボイド及び他の欠陥を低減する方法 | 2019年12月19日 | |
特開 2019-207415 | 光感応性酸発生剤およびそれらを含むフォトレジスト | 2019年12月 5日 | |
特開 2019-204088 | ナノ構造材料の構造体及び方法 | 2019年11月28日 | |
特開 2019-194725 | フォトレジストおよびその使用方法 | 2019年11月 7日 | |
特開 2019-189655 | 光酸発生化合物、それ由来のポリマー、光酸発生化合物またはポリマーを含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジストレリーフ像を形成する方法 | 2019年10月31日 | |
特開 2019-178339 | 中立層ポリマー、その製造の方法、およびそれを含む物品 | 2019年10月17日 | |
特開 2019-174832 | コポリマー複層電解質を使用したネガ型現像方法及びそれから作製された物品 | 2019年10月10日 | |
特開 2019-151641 | 光酸発生剤、フォトレジスト、コーティング基板、および電子デバイスの形成方法 | 2019年 9月12日 | |
特表 2019-524608 | ホスホネート改質金属酸化物粒子 | 2019年 9月 5日 | |
特表 2019-525379 | 発光装置、およびそれを備える電子デバイス | 2019年 9月 5日 |
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2019-218140 2019-218627 2019-218628 2019-218629 2019-219680 2019-214795 2019-207415 2019-204088 2019-194725 2019-189655 2019-178339 2019-174832 2019-151641 2019-524608 2019-525379
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