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ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

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 ■ 2026年 特許取得件数ランキング    第1915位 7件 (下降2025年:第1430位 13件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2026-154855 フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 2026年10月 5日
特表 2026-530381 フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 2026年 9月 8日
特表 2026-530380 フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 2026年 9月 8日
特開 2026-140671 ポリ(フタルアルデヒド)誘導体、それを含む組成物、及びパターン形成方法 2026年 9月 2日
特表 2026-528972 フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 2026年 8月26日
特開 2026-137059 非イオン性光酸発生剤、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 2026年 8月26日
特開 2026-137058 熱酸発生剤、コーティング組成物、及びパターン形成方法 2026年 8月26日
特開 2026-137057 重合性化合物、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 2026年 8月26日
特開 2026-114994 塩、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 2026年 7月 8日
特開 2026-114995 フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 2026年 7月 8日
特開 2026-89677 電子デバイスの製造に使用するための下層組成物 2026年 6月 1日
特開 2026-85888 主鎖を切断可能なブロックコポリマー、それを含むフォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 2026年 5月25日
特開 2026-66282 コートされた容器及びこのような容器を形成する方法 2026年 4月16日
特開 2026-60933 電気活性化合物、電気活性化合物を含む組成物、およびパターン形成方法 2026年 4月 8日
特開 2026-56599 ポリマー、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 2026年 4月 1日

19 件中 1-15 件を表示

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2026-154855 2026-530381 2026-530380 2026-140671 2026-528972 2026-137059 2026-137058 2026-137057 2026-114994 2026-114995 2026-89677 2026-85888 2026-66282 2026-60933 2026-56599

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