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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第1009位 21件 (2023年:第1102位 23件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第1808位 9件 (2023年:第1078位 20件)
(ランキング更新日:2024年11月11日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-137865 | 光画像化可能な誘電体 | 2024年10月 7日 | |
特開 2024-137866 | 樹脂組成物 | 2024年10月 7日 | |
特開 2024-124463 | フォトレジストトップコート組成物及びパターン形成方法 | 2024年 9月12日 | |
特開 2024-123050 | ヨウ素含有酸開裂性化合物、それから誘導されるポリマー、及びフォトレジスト組成物 | 2024年 9月10日 | |
特開 2024-96012 | ポリマー、それを含むフォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024年 7月11日 | |
特開 2024-96013 | コートされた容器及びこのような容器を形成する方法 | 2024年 7月11日 | |
特開 2024-96038 | フォトレジスト下層組成物及び電子デバイスを形成する方法 | 2024年 7月11日 | |
特開 2024-95589 | ポリマー、それを含むフォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024年 7月10日 | |
特開 2024-73511 | 下層組成物及びパターニング方法 | 2024年 5月29日 | |
特開 2024-70830 | ポリマー、それを含むフォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2024年 5月23日 | |
特開 2024-61788 | オーバーコートフォトレジスト用のコーティングされた下層 | 2024年 5月 8日 | |
特開 2024-47566 | 粗ニッケル用ニッケル電気めっき組成物 | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-47567 | 粗ニッケル用ニッケル電気めっき組成物 | 2024年 4月 5日 | |
特開 2024-43506 | フォトレジスト下層組成物 | 2024年 3月29日 | |
特開 2024-19193 | 光酸発生剤、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 | 2024年 2月 8日 |
21 件中 1-15 件を表示
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2024-137865 2024-137866 2024-124463 2024-123050 2024-96012 2024-96013 2024-96038 2024-95589 2024-73511 2024-70830 2024-61788 2024-47566 2024-47567 2024-43506 2024-19193
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