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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第908位 29件
(2021年:第1005位 27件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第805位 30件
(2021年:第787位 27件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7075386 | 芳香族下層 | 2022年 5月25日 | |
特許 7071418 | 反射防止コーティング | 2022年 5月18日 | |
特許 7068199 | 量子ドット発光素子 | 2022年 5月16日 | |
特許 7068424 | 酸性水性二成分銀-ビスマス合金電気めっき組成物及び方法 | 2022年 5月16日 | |
特許 7065160 | ケイ素含有下層を使用する方法 | 2022年 5月11日 | |
特許 7065164 | ポリマー及びフォトレジスト組成物 | 2022年 5月11日 | |
特許 7063942 | ディスプレイデバイス用のポリマー | 2022年 5月 9日 | |
特許 7049407 | 光酸発生剤、この光酸発生剤を含むフォトレジスト、およびこれを含むコーティングされた物品 | 2022年 4月 6日 | |
特許 7048711 | ポリマー及びフォトレジスト組成物 | 2022年 4月 5日 | |
特許 7046140 | オーバーコートされたフォトレジストと共に使用するためのコーティング組成物 | 2022年 4月 1日 | |
特許 7041204 | ヨウ素含有光酸発生剤及びそれを含む組成物 | 2022年 3月23日 | |
特許 7032502 | 酸性水性銀-ニッケル合金電気めっき組成物及び方法 | 2022年 3月 8日 | |
特許 7029508 | 酸性水性2成分銀-ビスマス合金電気めっき組成物及び方法 | 2022年 3月 3日 | |
特許 7011999 | 塩およびこれを含むフォトレジスト | 2022年 2月10日 | |
特許 7018021 | ナノ構造材料の連続フロー合成 | 2022年 2月 9日 |
35 件中 16-30 件を表示
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7075386 7071418 7068199 7068424 7065160 7065164 7063942 7049407 7048711 7046140 7041204 7032502 7029508 7011999 7018021
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7月2日(水) -
7月2日(水) -
7月3日(木) -
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