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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第339位　109件（2020年：第286位　138件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第239位　120件（2020年：第237位　122件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2021-505957	リソグラフィ装置を制御する方法および関連する装置	2021年 2月18日
特表 2021-505973	パターニングプロセスについての情報を決定する方法、測定データにおける誤差を低減する方法、メトロロジプロセスを較正する方法、メトロロジターゲットを選択する方法	2021年 2月18日
特表 2021-504731	多孔質グラファイトペリクル	2021年 2月15日
特表 2021-504732	レーザビームモニタリングシステム	2021年 2月15日
特表 2021-504954	パターニングプロセスパラメータを決定する方法および装置	2021年 2月15日
特開 2021-15289	光学要素を洗浄するための制御された流体流	2021年 2月12日
特開 2021-15304	干渉計における周期誤差の測定および校正の手順	2021年 2月12日
特表 2021-503103	基板ホルダ、基板支持部、基板をクランプシステムにクランプする方法、およびリソグラフィ装置	2021年 2月 4日
特表 2021-502584	基板ホルダおよび基板ホルダを製造する方法	2021年 1月28日
特表 2021-502585	ＥＵＶペリクル	2021年 1月28日
特表 2021-502669	電子ビーム検査ツール、及びオブジェクトテーブルを位置決めする方法	2021年 1月28日
特表 2021-501905	関心対象特性を算出するメトロロジ装置及び方法	2021年 1月21日
特表 2021-501907	極端紫外線光源のチャンバ内の光学系の表面の洗浄	2021年 1月21日
特表 2021-501909	応力低減のための金属ケイ化物窒化	2021年 1月21日
特表 2021-501309	構造を測定するメトロロジ装置、リソグラフィシステム、及び方法	2021年 1月14日

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2021-505957 2021-505973 2021-504731 2021-504732 2021-504954 2021-15289 2021-15304 2021-503103 2021-502584 2021-502585 2021-502669 2021-501905 2021-501907 2021-501909 2021-501309

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2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数

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