ホーム > 特許ランキング > エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. > 2015年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2015年 出願公開件数ランキング 第339位 112件 (2014年: 0件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第225位 132件 (2014年: 0件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特表 2015-537239 | パターニングデバイス操作システム及びリソグラフィ装置 | 2015年12月24日 | |
特表 2015-536476 | パターニングデバイス支持体、リソグラフィ装置及びパターニングデバイスの温度制御方法 | 2015年12月21日 | |
特表 2015-536538 | 放射を発生させるための方法及び装置 | 2015年12月21日 | |
特表 2015-536545 | 放射を発生させる方法及び装置 | 2015年12月21日 | |
特表 2015-535942 | リアルタイムレチクル曲率検出 | 2015年12月17日 | |
特表 2015-535953 | 定量的レチクル歪み測定システム | 2015年12月17日 | |
特表 2015-535954 | 位置測定装置、位置測定方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2015年12月17日 | |
特表 2015-536125 | リラクタンスアクチュエータアセンブリの較正方法、リラクタンスアクチュエータ、リラクタンスアクチュエータを備えるリソグラフィ装置 | 2015年12月17日 | |
特開 2015-228520 | インプリントリソグラフィ | 2015年12月17日 | |
特表 2015-535090 | リソグラフィ用センサシステム | 2015年12月 7日 | |
特表 2015-534102 | 変形パターン認識手法、パターン転写方法、処理デバイスモニタリング方法、及びリソグラフィ装置 | 2015年11月26日 | |
特表 2015-534131 | パターニングデバイス支持体及びリソグラフィ装置 | 2015年11月26日 | |
特開 2015-212839 | リトグラフ装置 | 2015年11月26日 | |
特表 2015-533253 | 苛酷環境光学要素保護 | 2015年11月19日 | |
特開 2015-207024 | マルチステージシステムおよびリソグラフィ装置 | 2015年11月19日 |
117 件中 1-15 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2015-537239 2015-536476 2015-536538 2015-536545 2015-535942 2015-535953 2015-535954 2015-536125 2015-228520 2015-535090 2015-534102 2015-534131 2015-212839 2015-533253 2015-207024
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.の知財の動向チェックに便利です。
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -