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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第286位 138件
（
2019年：第272位 151件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第237位 122件
（
2019年：第255位 108件）
（ランキング更新日：2024年11月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2020-537331 | リソグラフィ装置において使用される基板ホルダ | 2020年12月17日 | |
| 特開 2020-202180 | 荷電粒子源モジュール | 2020年12月17日 | |
| 特表 2020-536249 | 基板上の１つ又は複数の構造の特性を決定するためのメトロロジシステムおよび方法 | 2020年12月10日 | |
| 特表 2020-536347 | 荷電粒子ビームを用いた装置 | 2020年12月10日 | |
| 特表 2020-536350 | 干渉計ステージ位置決めデバイス | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-197731 | リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置の動作方法 | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-197750 | リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造 | 2020年12月10日 | |
| 特表 2020-535458 | 放射源 | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-535479 | デバイス製造方法の制御パラメータを決定する方法、本方法を実行するよう構成される非一時的コンピュータ可読媒体およびシステム | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-535484 | リソグラフィ方法 | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-535583 | サンプル検査における画像コントラスト強調 | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-535584 | 後方散乱粒子による埋め込みフィーチャの検出 | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-535585 | 荷電粒子のビーム状態を調節するための方法及び装置 | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-535586 | 荷電粒子のためのマルチセル検出器 | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-535587 | 荷電粒子ビーム検査のためのサンプルの予備帯電方法及び装置 | 2020年12月 3日 |
140 件中 1-15 件を表示
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2020-537331 2020-202180 2020-536249 2020-536347 2020-536350 2020-197731 2020-197750 2020-535458 2020-535479 2020-535484 2020-535583 2020-535584 2020-535585 2020-535586 2020-535587
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