特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第258位　138件（2019年：第249位　151件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第236位　122件（2019年：第255位　108件）

（ランキング更新日：2026年10月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-202180	荷電粒子源モジュール	2020年12月17日
特表 2020-537331	リソグラフィ装置において使用される基板ホルダ	2020年12月17日
特開 2020-197750	リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造	2020年12月10日
特開 2020-197731	リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置の動作方法	2020年12月10日
特表 2020-536350	干渉計ステージ位置決めデバイス	2020年12月10日
特表 2020-536347	荷電粒子ビームを用いた装置	2020年12月10日
特表 2020-536249	基板上の１つ又は複数の構造の特性を決定するためのメトロロジシステムおよび方法	2020年12月10日
特表 2020-535458	放射源	2020年12月 3日
特表 2020-535479	デバイス製造方法の制御パラメータを決定する方法、本方法を実行するよう構成される非一時的コンピュータ可読媒体およびシステム	2020年12月 3日
特表 2020-535484	リソグラフィ方法	2020年12月 3日
特表 2020-535583	サンプル検査における画像コントラスト強調	2020年12月 3日
特表 2020-535584	後方散乱粒子による埋め込みフィーチャの検出	2020年12月 3日
特表 2020-535585	荷電粒子のビーム状態を調節するための方法及び装置	2020年12月 3日
特表 2020-535587	荷電粒子ビーム検査のためのサンプルの予備帯電方法及び装置	2020年12月 3日
特表 2020-535586	荷電粒子のためのマルチセル検出器	2020年12月 3日

140 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2020-202180 2020-537331 2020-197750 2020-197731 2020-536350 2020-536347 2020-536249 2020-535458 2020-535479 2020-535484 2020-535583 2020-535584 2020-535585 2020-535587 2020-535586

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数