特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第339位　109件（2020年：第286位　138件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第239位　120件（2020年：第237位　122件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6985263	放射源プラズマチャンバにおける不安定状態を回避するためのシステム及び方法	2021年12月22日
特許 6982059	処理装置をモニタするための方法及びシステム	2021年12月17日
特許 6979513	リソグラフィ装置及び方法	2021年12月15日
特許 6979529	リソグラフィプロセスにおける計測	2021年12月15日
特許 6977099	リソグラフィ装置用基板テーブル、および基板の装填方法	2021年12月 8日
特許 6975324	構造を測定するメトロロジ装置、リソグラフィシステム、及び方法	2021年12月 1日
特許 6975344	パターニングプロセスについての情報を決定する方法、測定データにおける誤差を低減する方法、メトロロジプロセスを較正する方法、メトロロジターゲットを選択する方法	2021年12月 1日
特許 6968982	パターニングプロセス制御方法、デバイス製造方法	2021年11月24日
特許 6970155	極端紫外光源	2021年11月24日
特許 6971372	ファセット付きＥＵＶ光学素子	2021年11月24日
特許 6972312	荷電粒子ビーム装置及びその装置を動作させるシステム及び方法	2021年11月24日
特許 6967146	一組の相補的回折パターンを位置合わせする方法および関連する測定方法および装置	2021年11月17日
特許 6967509	光学アイソレーションモジュール	2021年11月17日
特許 6964591	メトロロジデータへの寄与の分離	2021年11月10日
特許 6965332	基板ハンドリングシステムおよびリソグラフィ装置	2021年11月10日

123 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6985263 6982059 6979513 6979529 6977099 6975324 6975344 6968982 6970155 6971372 6972312 6967146 6967509 6964591 6965332

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数