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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第339位 109件
(2020年:第286位 138件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第239位 120件
(2020年:第237位 122件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6985263 | 放射源プラズマチャンバにおける不安定状態を回避するためのシステム及び方法 | 2021年12月22日 | |
特許 6982059 | 処理装置をモニタするための方法及びシステム | 2021年12月17日 | |
特許 6979513 | リソグラフィ装置及び方法 | 2021年12月15日 | |
特許 6979529 | リソグラフィプロセスにおける計測 | 2021年12月15日 | |
特許 6977099 | リソグラフィ装置用基板テーブル、および基板の装填方法 | 2021年12月 8日 | |
特許 6975324 | 構造を測定するメトロロジ装置、リソグラフィシステム、及び方法 | 2021年12月 1日 | |
特許 6975344 | パターニングプロセスについての情報を決定する方法、測定データにおける誤差を低減する方法、メトロロジプロセスを較正する方法、メトロロジターゲットを選択する方法 | 2021年12月 1日 | |
特許 6968982 | パターニングプロセス制御方法、デバイス製造方法 | 2021年11月24日 | |
特許 6970155 | 極端紫外光源 | 2021年11月24日 | |
特許 6971372 | ファセット付きEUV光学素子 | 2021年11月24日 | |
特許 6972312 | 荷電粒子ビーム装置及びその装置を動作させるシステム及び方法 | 2021年11月24日 | |
特許 6967146 | 一組の相補的回折パターンを位置合わせする方法および関連する測定方法および装置 | 2021年11月17日 | |
特許 6967509 | 光学アイソレーションモジュール | 2021年11月17日 | |
特許 6964591 | メトロロジデータへの寄与の分離 | 2021年11月10日 | |
特許 6965332 | 基板ハンドリングシステムおよびリソグラフィ装置 | 2021年11月10日 |
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6985263 6982059 6979513 6979529 6977099 6975324 6975344 6968982 6970155 6971372 6972312 6967146 6967509 6964591 6965332
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