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エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

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  2021年 出願公開件数ランキング    第339位 109件 下降2020年:第286位 138件)

  2021年 特許取得件数ランキング    第239位 120件 下降2020年:第237位 122件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6985263 放射源プラズマチャンバにおける不安定状態を回避するためのシステム及び方法 2021年12月22日
特許 6982059 処理装置をモニタするための方法及びシステム 2021年12月17日
特許 6979513 リソグラフィ装置及び方法 2021年12月15日
特許 6979529 リソグラフィプロセスにおける計測 2021年12月15日
特許 6977099 リソグラフィ装置用基板テーブル、および基板の装填方法 2021年12月 8日
特許 6975324 構造を測定するメトロロジ装置、リソグラフィシステム、及び方法 2021年12月 1日
特許 6975344 パターニングプロセスについての情報を決定する方法、測定データにおける誤差を低減する方法、メトロロジプロセスを較正する方法、メトロロジターゲットを選択する方法 2021年12月 1日
特許 6968982 パターニングプロセス制御方法、デバイス製造方法 2021年11月24日
特許 6970155 極端紫外光源 2021年11月24日
特許 6971372 ファセット付きEUV光学素子 2021年11月24日
特許 6972312 荷電粒子ビーム装置及びその装置を動作させるシステム及び方法 2021年11月24日
特許 6967146 一組の相補的回折パターンを位置合わせする方法および関連する測定方法および装置 2021年11月17日
特許 6967509 光学アイソレーションモジュール 2021年11月17日
特許 6964591 メトロロジデータへの寄与の分離 2021年11月10日
特許 6965332 基板ハンドリングシステムおよびリソグラフィ装置 2021年11月10日

123 件中 1-15 件を表示

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6985263 6982059 6979513 6979529 6977099 6975324 6975344 6968982 6970155 6971372 6972312 6967146 6967509 6964591 6965332

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