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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第242位 151件
（
2022年：第222位 169件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第238位 146件
（
2022年：第259位 122件）
（ランキング更新日：2024年11月11日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2023-554272 | 一次電子ビームをサンプルに向ける方法及び電子光学カラム | 2023年12月27日 | |
| 特表 2023-553368 | 荷電粒子ビーム検査システムにおけるトポロジーベースの画像レンダリング | 2023年12月21日 | |
| 特表 2023-552964 | 非静止物体を撮像するための方法及び装置 | 2023年12月20日 | |
| 特表 2023-553078 | 中空コアフォトニック結晶ファイバに基づく広帯域放射生成器 | 2023年12月20日 | |
| 特表 2023-553103 | 荷電粒子系、荷電粒子のマルチビームを使用してサンプルを処理する方法 | 2023年12月20日 | |
| 特表 2023-551776 | メトロロジの方法及び関連装置 | 2023年12月13日 | |
| 特開 2023-175965 | 低クロストークを有する多重荷電粒子ビーム装置 | 2023年12月12日 | |
| 特開 2023-174658 | リソグラフィ装置において使用される基板ホルダ | 2023年12月 8日 | |
| 特表 2023-551171 | リソグラフィ装置コンポーネントおよび方法 | 2023年12月 7日 | |
| 特表 2023-550904 | メトロロジ方法並びに関連付けられたメトロロジ及びリソグラフィ装置 | 2023年12月 6日 | |
| 特表 2023-550912 | 荷電粒子評価ツール、検査方法及び画像 | 2023年12月 6日 | |
| 特開 2023-171863 | ビーム画像システムのためのスイッチマトリクス設計 | 2023年12月 5日 | |
| 特開 2023-171474 | 位置決めデバイス、剛性低減デバイス及び電子ビーム装置 | 2023年12月 1日 | |
| 特表 2023-550246 | 流体ハンドリングシステム、方法およびリソグラフィ装置 | 2023年12月 1日 | |
| 特表 2023-550384 | 静電クランプ | 2023年12月 1日 |
157 件中 1-15 件を表示
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2023-554272 2023-553368 2023-552964 2023-553078 2023-553103 2023-551776 2023-175965 2023-174658 2023-551171 2023-550904 2023-550912 2023-171863 2023-171474 2023-550246 2023-550384
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