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エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

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 ■ 2026年 出願公開件数ランキング    第193位 148件 (上昇2025年:第200位 172件)

 ■ 2026年 特許取得件数ランキング    第336位 66件 (上昇2025年:第349位 78件)

(ランキング更新日:2026年10月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2026-533986 デバイス製造中のエネルギー障壁の非接触測定のためのシステム及び方法 2026年10月14日
特表 2026-533964 検査システムのためのリアルタイムレシピ調整 2026年10月14日
特表 2026-533593 リソグラフィ装置におけるパターニングデバイスの運動制御のためのシステム及び方法 2026年10月 7日
特表 2026-533579 フォーカスメトロロジのためのフォーカスターゲットを設計するための方法 2026年10月 7日
特表 2026-533341 光学フィルタ、該フィルタを備えるヘテロダイン干渉計システム、及びヘテロダイン干渉計の入力ビームをフィルタリングする方法 2026年10月 6日
特表 2026-533327 高さ測定システム 2026年10月 6日
特表 2026-532855 カーボンナノチューブペリクル膜 2026年10月 2日
特表 2026-532876 基板結合システム 2026年10月 2日
特表 2026-532885 リソグラフィ装置及びガスロックファンネル 2026年10月 2日
特表 2026-532714 レチクル調整ノズル 2026年10月 1日
特表 2026-532497 投影システム特徴付けシステムおよび方法 2026年 9月29日
特表 2026-532366 放射システム 2026年 9月29日
特表 2026-531952 磁気浮上オブジェクトステージのためのシステム及び方法 2026年 9月25日
特表 2026-531172 基板の乱れを最小限に抑えるためのシステム及び方法、並びにそのシステムを含むリソグラフィ装置 2026年 9月15日
特表 2026-531162 エッジ配置計測のための学習ベースのローカルアライメント 2026年 9月15日

149 件中 1-15 件を表示

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