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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第314位 124件
(
2017年:第379位 113件)
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2017年:第305位 95件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2018-538560 | 振動絶縁システム及びリソグラフィ装置 | 2018年12月27日 | |
| 特表 2018-538567 | 基板テーブル、リソグラフィ装置、及びリソグラフィ装置を操作する方法 | 2018年12月27日 | |
| 特表 2018-538570 | 振動絶縁デバイス、リソグラフィ装置、および振動絶縁システムを調節する方法 | 2018年12月27日 | |
| 特表 2018-537719 | EUVリソグラフィ用のメンブレンアセンブリを製造する方法、メンブレンアセンブリ、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2018年12月20日 | |
| 特表 2018-537720 | ペリクル及びペリクルアセンブリ | 2018年12月20日 | |
| 特表 2018-536888 | 基板ホルダ、リソグラフィ装置、及びデバイスを製造する方法 | 2018年12月13日 | |
| 特表 2018-536890 | 放射システムおよび光デバイス | 2018年12月13日 | |
| 特表 2018-536902 | EUVリソグラフィのための膜 | 2018年12月13日 | |
| 特表 2018-536907 | リソグラフィ方法およびリソグラフィ装置 | 2018年12月13日 | |
| 特開 2018-197876 | モデルベースのプロセスシミュレーション方法 | 2018年12月13日 | |
| 特開 2018-197887 | 極端紫外光源 | 2018年12月13日 | |
| 特表 2018-536186 | 膜アセンブリを製造するための方法 | 2018年12月 6日 | |
| 特表 2018-536187 | 近接センサ、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 | 2018年12月 6日 | |
| 特表 2018-536188 | 位置決めデバイス、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2018年12月 6日 | |
| 特表 2018-536198 | リソグラフィ装置および方法 | 2018年12月 6日 |
128 件中 1-15 件を表示
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2018-538560 2018-538567 2018-538570 2018-537719 2018-537720 2018-536888 2018-536890 2018-536902 2018-536907 2018-197876 2018-197887 2018-536186 2018-536187 2018-536188 2018-536198
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