特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第314位　124件（2017年：第379位　113件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第281位　102件（2017年：第305位　95件）

（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2018-538560	振動絶縁システム及びリソグラフィ装置	2018年12月27日
特表 2018-538567	基板テーブル、リソグラフィ装置、及びリソグラフィ装置を操作する方法	2018年12月27日
特表 2018-538570	振動絶縁デバイス、リソグラフィ装置、および振動絶縁システムを調節する方法	2018年12月27日
特表 2018-537719	ＥＵＶリソグラフィ用のメンブレンアセンブリを製造する方法、メンブレンアセンブリ、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法	2018年12月20日
特表 2018-537720	ペリクル及びペリクルアセンブリ	2018年12月20日
特表 2018-536888	基板ホルダ、リソグラフィ装置、及びデバイスを製造する方法	2018年12月13日
特表 2018-536890	放射システムおよび光デバイス	2018年12月13日
特表 2018-536902	ＥＵＶリソグラフィのための膜	2018年12月13日
特表 2018-536907	リソグラフィ方法およびリソグラフィ装置	2018年12月13日
特開 2018-197876	モデルベースのプロセスシミュレーション方法	2018年12月13日
特開 2018-197887	極端紫外光源	2018年12月13日
特表 2018-536186	膜アセンブリを製造するための方法	2018年12月 6日
特表 2018-536187	近接センサ、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法	2018年12月 6日
特表 2018-536188	位置決めデバイス、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法	2018年12月 6日
特表 2018-536198	リソグラフィ装置および方法	2018年12月 6日

128 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2018-538560 2018-538567 2018-538570 2018-537719 2018-537720 2018-536888 2018-536890 2018-536902 2018-536907 2018-197876 2018-197887 2018-536186 2018-536187 2018-536188 2018-536198

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数