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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第301位 109件
(
2020年:第258位 138件)
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(
2020年:第236位 122件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2021-536659 | 急速帯電デバイスの時間依存欠陥を検出するための装置及び方法 | 2021年12月27日 | |
| 特表 2021-536590 | 高圧接続用装置 | 2021年12月27日 | |
| 特表 2021-536032 | 基板サポート、リソグラフィ装置、基板検査装置、デバイス製造方法 | 2021年12月23日 | |
| 特表 2021-535442 | 走査中のビームの空間寸法を設定するための方法および装置 | 2021年12月16日 | |
| 特表 2021-535433 | ステージ装置および物体搭載プロセスの較正方法 | 2021年12月16日 | |
| 特表 2021-535419 | コンパクトなアライメントセンサ配置 | 2021年12月16日 | |
| 特開 2021-185613 | 荷電粒子遮断要素、このような要素を備えた露光装置、及びこのような露光装置を使用する方法 | 2021年12月 9日 | |
| 特開 2021-185571 | 荷電粒子ビームシステムにおける汚染の除去及び/又は回避のための方法及びシステム | 2021年12月 9日 | |
| 特表 2021-534580 | 時間依存欠陥検査装置 | 2021年12月 9日 | |
| 特表 2021-534461 | メトトロジ装置 | 2021年12月 9日 | |
| 特表 2021-534460 | パルスストレッチャーおよび方法 | 2021年12月 9日 | |
| 特表 2021-534458 | 製造プロセスを制御する方法及び関連する装置 | 2021年12月 9日 | |
| 特開 2021-184104 | EUV容器及びEUVコレクタのターゲット材料デブリクリーニングのためのシステム、方法、及び装置 | 2021年12月 2日 | |
| 特表 2021-532545 | 複数の荷電粒子ビームのための装置 | 2021年11月25日 | |
| 特表 2021-532398 | 光マスクレス | 2021年11月25日 |
112 件中 1-15 件を表示
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2021-536659 2021-536590 2021-536032 2021-535442 2021-535433 2021-535419 2021-185613 2021-185571 2021-534580 2021-534461 2021-534460 2021-534458 2021-184104 2021-532545 2021-532398
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AI Native知財 - 私たちはどう生きるか? - 楠浦崇央 氏(TechnoProducer株式会社 代表取締役/発明塾 塾長) x 弁理士木本大介(リーガルテック株式会社アドバイザー)
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企業の知財部員がすべき「知財実務手順の対応」 ~特許出願から明細書作成のノウハウ及び先行技術調査の基礎、特許権侵害の実務対応~
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