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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-59659	荷電粒子ビームシステムにおいてレベル変動を測定するための自己示差共焦点傾斜センサ	2024年 5月 1日
特表 2024-518603	ＥＵＶ露光装置における測定のための回折格子	2024年 5月 1日
特開 2024-56720	荷電粒子操作デバイス	2024年 4月23日
特表 2024-515937	荷電粒子システムにおける検査中に局所焦点を特定するためのシステム及び方法	2024年 4月11日
特表 2024-515941	レーザビーム計測システム、レーザビームシステム、ＥＵＶ放射源及びリソグラフィ装置	2024年 4月11日
特開 2024-50537	静電レンズ設計	2024年 4月10日
特開 2024-50859	マスクアセンブリ及び関連する方法	2024年 4月10日
特表 2024-515421	表面上のラフネス及び／又は欠陥測定のための測定装置並びに方法	2024年 4月10日
特表 2024-515477	光学系、計測システム、リソグラフィ装置における収差の制御及びその方法	2024年 4月10日
特表 2024-515487	温度調節システム、リソグラフィ装置及びオブジェクトを温度調節するための方法	2024年 4月10日
特開 2024-45309	液滴発生器性能を監視及び制御する装置及び方法	2024年 4月 2日
特開 2024-45512	装置	2024年 4月 2日
特表 2024-514399	スキャニング計測のためのデータフィルタ	2024年 4月 2日
特表 2024-514054	メトロロジツール較正方法及び関連するメトロロジツール	2024年 3月28日
特表 2024-514056	流体ハンドリングシステム、方法及びリソグラフィ装置	2024年 3月28日

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2024-59659 2024-518603 2024-56720 2024-515937 2024-515941 2024-50537 2024-50859 2024-515421 2024-515477 2024-515487 2024-45309 2024-45512 2024-514399 2024-514054 2024-514056

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