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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第220位　162件（2023年：第242位　151件）

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-546596	リソグラフィにおける熱制御システム、モデル、及び製造プロセス	2024年12月26日
特表 2024-546625	オーバーレイを判断するための方法及び装置	2024年12月26日
特表 2024-546776	導波管およびその製造方法	2024年12月26日
特開 2024-178166	アパーチャアセンブリ、ビームマニピュレータユニット、荷電粒子ビームを操作する方法、及び荷電粒子投影装置	2024年12月24日
特開 2024-177192	リソグラフィ装置で用いる基板ホルダ及びデバイス製造方法	2024年12月19日
特開 2024-174891	極紫外光源の光パルス発生	2024年12月17日
特表 2024-545991	フォトリソグラフィ装置用のユーティリティステージ及び方法	2024年12月17日
特表 2024-545804	マルチ荷電粒子ビーム装置及びその動作方法	2024年12月12日
特表 2024-545640	リソグラフィプロセスにおける周期的誤差の影響を低減させる方法、投影システム、及び投影システムを含むリソグラフィ装置	2024年12月10日
特表 2024-545402	基板に適用された層の機械的特性を決定する方法、及び関連装置	2024年12月 6日
特表 2024-544836	中空コアフォトニック結晶ファイバに基づく広帯域放射ジェネレータ	2024年12月 5日
特表 2024-545012	リソグラフィシステムにおける基板アライメントのためのターゲット非対称性測定	2024年12月 5日
特表 2024-545013	周囲パターン及びプロセスを意識したメトロロジ	2024年12月 5日
特表 2024-544504	荷電粒子装置のためのプラットフォーム及び荷電粒子装置内のコンポーネント	2024年12月 3日
特表 2024-544560	電圧コントラスト検査用の荷電粒子ビーム装置及びその方法	2024年12月 3日

164 件中 1-15 件を表示

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2024-546596 2024-546625 2024-546776 2024-178166 2024-177192 2024-174891 2024-545991 2024-545804 2024-545640 2024-545402 2024-544836 2024-545012 2024-545013 2024-544504 2024-544560

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