特許ランキング - 出願人詳細情報 -

トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッド

※ ログインすれば出願人(トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第34147位　0件（2020年：第33722位　0件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第25492位　0件（2020年：第24204位　0件）

（ランキング更新日：2025年1月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年

トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2021-525453	気相ラジカルの制御のための複数ゾーンガス噴射	2021年 9月24日
特表 2021-524151	３次元デバイス及びそれを形成する方法	2021年 9月 9日
特表 2021-523515	プラズマを収容したラジカル源	2021年 9月 2日
特表 2021-522680	高度なコンタクトにおけるキャップ層形成のためのエリア選択的堆積	2021年 8月30日
特表 2021-521590	プロセスプラズマにおけるイオンエネルギー分布を制御するための装置及び方法	2021年 8月26日
特表 2021-521637	低容量相互接続用のエアギャップを備えた半導体デバイスを形成する方法	2021年 8月26日
特表 2021-520637	完全自己整合方式を使用するサブトラクティブ相互接続形成	2021年 8月19日
特表 2021-518575	較正されたトリム量を用いて限界寸法を補正するための方法	2021年 8月 2日
特表 2021-518658	レジストフィルムの厚さを調整するためのシステム及び方法	2021年 8月 2日
特表 2021-518664	形状メトロロジのための基板保持装置及び方法	2021年 8月 2日
特表 2021-518672	統合的な半導体処理モジュールを組み込んだ自己認識及び補正異種プラットフォーム及びその使用方法	2021年 8月 2日
特表 2021-518673	統合的な計測を伴う基板処理ツール並びに使用方法	2021年 8月 2日
特表 2021-518674	統合的な半導体処理モジュールを組み込んだ自己認識及び補正異種プラットフォーム及びその使用方法	2021年 8月 2日
特表 2021-518675	プラットフォーム、及び統合的エンドツーエンド自己整合マルチパターニングプロセスの操作方法	2021年 8月 2日
特表 2021-515402	パターンを層に転写する方法	2021年 6月17日

42 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2021-525453 2021-524151 2021-523515 2021-522680 2021-521590 2021-521637 2021-520637 2021-518575 2021-518658 2021-518664 2021-518672 2021-518673 2021-518674 2021-518675 2021-515402

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数