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トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッド

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トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2021-536667	プラズマ処理の方法及び装置	2021年12月27日
特表 2021-536674	モノリシック集積型３次元ＣＭＯＳロジック及びメモリを製造するためのアーキテクチャ設計及びプロセス	2021年12月27日
特表 2021-536675	３Ｄロジック及びメモリのための電力分配ネットワーク	2021年12月27日
特表 2021-535604	ウェットエッチングのための光子的に調整されたエッチング液の反応性	2021年12月16日
特表 2021-535616	自己組織化単分子膜コーティングを使用することによる金属汚染の防止のための方法及びシステム	2021年12月16日
特表 2021-535617	３次元ロジック機構内に積層型トランジスタを組み込んだロジックセルを垂直方向にルーティングする方法	2021年12月16日
特表 2021-534544	プラズマ処理のための制御のシステム及び方法	2021年12月 9日
特表 2021-534545	プラズマ処理のための制御のシステム及び方法	2021年12月 9日
特表 2021-534575	ルテニウムハードマスクプロセス	2021年12月 9日
特表 2021-533558	垂直入射現場プロセス監視センサ	2021年12月 2日
特表 2021-531661	半導体デバイス用の結晶学的に安定化された強誘電性ハフニウムジルコニウムベースの膜を形成する方法	2021年11月18日
特表 2021-530874	３Ｄ　ＮＡＮＤ構造における窒化ケイ素のエッチング及びシリカ堆積制御	2021年11月11日
特表 2021-530101	選択的二重層誘電体再成長を用いた完全な自己整合ビア	2021年11月 4日
特表 2021-528859	ナノワイヤデバイスを形成する方法	2021年10月21日
特表 2021-527946	製造装置における特性の低干渉でのリアルタイム感知	2021年10月14日

42 件中 1-15 件を表示

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2021-536667 2021-536674 2021-536675 2021-535604 2021-535616 2021-535617 2021-534544 2021-534545 2021-534575 2021-533558 2021-531661 2021-530874 2021-530101 2021-528859 2021-527946

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