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トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド

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  2016年 出願公開件数ランキング    第33513位 0件 下降2015年:第32490位 0件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第24808位 0件 下降2015年:第23268位 0件)

(ランキング更新日:2025年1月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2016-541119 直流重ね合わせフリーズ 2016年12月28日
特表 2016-541125 ラインを正確にカットするためのグラホエピタキシャル誘導自己組織化の使用 2016年12月28日
特表 2016-540246 光学投影を使用する基板チューニングシステム及び方法 2016年12月22日
特表 2016-539361 EUVリソグラフィを加速するためのポスト処理メソッドを使用する方法 2016年12月15日
特表 2016-539362 化学的研磨平坦化の方法 2016年12月15日
特開 2016-213444 イメージ反転、誘導自己組織化、および選択的堆積を補助するための、サブ解像度開口部の使用 2016年12月15日
特表 2016-538726 異なる波長の二つ以上の紫外光源を用いて基板を処理するシステム 2016年12月 8日
特表 2016-537830 ガスパルスを用いる深掘りシリコンエッチングのための方法 2016年12月 1日
特開 2016-201542 オープンフィーチャ内に誘電体分離構造を作成するサブトラクティブ法 2016年12月 1日
特表 2016-532311 誘導自己組織化用の化学テンプレートを形成するための硬化フォトレジストのUV支援剥離 2016年10月13日
特開 2016-177303 基板裏側のテクスチャリング 2016年10月 6日
特表 2016-529736 ハードマスクを横方向にトリミングする方法 2016年 9月23日
特表 2016-528551 基板裏側のテクスチャリング 2016年 9月15日
特表 2016-522979 誘導自己組織化用途における中立層オーバーコートのトポグラフィの最小化 2016年 8月 4日
特表 2016-518701 誘導自己組織化リソグラフィ制御用多重工程ベーキング装置及び方法 2016年 6月23日

19 件中 1-15 件を表示

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2016-541119 2016-541125 2016-540246 2016-539361 2016-539362 2016-213444 2016-538726 2016-537830 2016-201542 2016-532311 2016-177303 2016-529736 2016-528551 2016-522979 2016-518701

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