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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第33513位 0件 (2015年:第32490位 0件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2016-541119 | 直流重ね合わせフリーズ | 2016年12月28日 | |
特表 2016-541125 | ラインを正確にカットするためのグラホエピタキシャル誘導自己組織化の使用 | 2016年12月28日 | |
特表 2016-540246 | 光学投影を使用する基板チューニングシステム及び方法 | 2016年12月22日 | |
特表 2016-539361 | EUVリソグラフィを加速するためのポスト処理メソッドを使用する方法 | 2016年12月15日 | |
特表 2016-539362 | 化学的研磨平坦化の方法 | 2016年12月15日 | |
特開 2016-213444 | イメージ反転、誘導自己組織化、および選択的堆積を補助するための、サブ解像度開口部の使用 | 2016年12月15日 | |
特表 2016-538726 | 異なる波長の二つ以上の紫外光源を用いて基板を処理するシステム | 2016年12月 8日 | |
特表 2016-537830 | ガスパルスを用いる深掘りシリコンエッチングのための方法 | 2016年12月 1日 | |
特開 2016-201542 | オープンフィーチャ内に誘電体分離構造を作成するサブトラクティブ法 | 2016年12月 1日 | |
特表 2016-532311 | 誘導自己組織化用の化学テンプレートを形成するための硬化フォトレジストのUV支援剥離 | 2016年10月13日 | |
特開 2016-177303 | 基板裏側のテクスチャリング | 2016年10月 6日 | |
特表 2016-529736 | ハードマスクを横方向にトリミングする方法 | 2016年 9月23日 | |
特表 2016-528551 | 基板裏側のテクスチャリング | 2016年 9月15日 | |
特表 2016-522979 | 誘導自己組織化用途における中立層オーバーコートのトポグラフィの最小化 | 2016年 8月 4日 | |
特表 2016-518701 | 誘導自己組織化リソグラフィ制御用多重工程ベーキング装置及び方法 | 2016年 6月23日 |
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2016-541119 2016-541125 2016-540246 2016-539361 2016-539362 2016-213444 2016-538726 2016-537830 2016-201542 2016-532311 2016-177303 2016-529736 2016-528551 2016-522979 2016-518701
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1月28日(火) - 東京 港区
1月28日(火) -
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1月28日(火) -
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1月30日(木) - 東京 港区
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2月5日(水) -
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2月6日(木) -
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2月7日(金) - 東京 港区
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2月7日(金) -