ホーム > 特許ランキング > トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド > 2020年 > 出願公開一覧
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第33075位 0件
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2019年:第34180位 0件)
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2019年:第23568位 0件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2020-536395 | 相互接続のためのルテニウム金属機能フィリング | 2020年12月10日 | |
| 特表 2020-531822 | 相決定用の光センサ | 2020年11月 5日 | |
| 特表 2020-532101 | 工業用製造機器における特性をリアルタイム感知するための装置及び方法 | 2020年11月 5日 | |
| 特表 2020-530661 | ハロゲン不活性化を使用した選択的膜堆積 | 2020年10月22日 | |
| 特表 2020-529130 | 基板の裏面堆積のシステム及び方法 | 2020年10月 1日 | |
| 特表 2020-523794 | 磁気トンネル接合をパターン化する方法 | 2020年 8月 6日 | |
| 特表 2020-520125 | 高度なパターン形成用途のためのインサイチュでの選択的堆積及びエッチング | 2020年 7月 2日 | |
| 特表 2020-519013 | NFET及びPFETナノワイヤデバイスを製造する方法 | 2020年 6月25日 | |
| 特表 2020-519032 | 設置面積を減少した製造環境のための垂直マルチ・バッチ磁気アニールシステム | 2020年 6月25日 | |
| 特開 2020-92274 | イメージ反転、誘導自己組織化、および選択的堆積を補助するための、サブ解像度開口部の使用 | 2020年 6月11日 | |
| 特表 2020-515063 | エッチングメトリックを向上させるための表面改質制御 | 2020年 5月21日 | |
| 特表 2020-513647 | 製造プロセスにおける粒子によって誘発されるアークの検出のための組成発光分光分析 | 2020年 5月14日 | |
| 特開 2020-36040 | 有機化合物ガス環境中でのCu含有層の中性ビームエッチング | 2020年 3月 5日 |
13 件中 1-13 件を表示
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2020-536395 2020-531822 2020-532101 2020-530661 2020-529130 2020-523794 2020-520125 2020-519013 2020-519032 2020-92274 2020-515063 2020-513647 2020-36040
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