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トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッド

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トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2019-537254	ビア対グリッドのパターニングにおけるオーバレイエラーを減少する方法	2019年12月19日
特表 2019-537266	サブ解像度基板パターニング方法	2019年12月19日
特開 2019-215562	現像可能な底部反射防止コーティングおよび着色注入レジストのための化学増幅方法および技術	2019年12月19日
特表 2019-526939	原子層エッチング（ＡＬＥ）のためのエンドポイント検出アルゴリズム	2019年 9月19日
特表 2019-525483	エッチングベースの基板の平坦化方法	2019年 9月 5日
特開 2019-145792	基板への周期的オルガノシリケートまたは自己組織化モノレイヤのスピンオンコーティングのためのシステムおよび方法	2019年 8月29日
特表 2019-522906	水素プラズマを用いたシリコン抽出方法	2019年 8月15日
特表 2019-517742	選択的窒化シリコンエッチングの方法	2019年 6月24日
特表 2019-517743	側壁イメージ転写の方法	2019年 6月24日
特表 2019-517026	光増感化学又は感光性化学増幅レジストを用いた限界寸法制御	2019年 6月20日
特表 2019-517137	光剤を用いた限界寸法制御	2019年 6月20日
特表 2019-517154	複数の材料を有する層を用いて基板をパターニングする方法	2019年 6月20日
特表 2019-514066	複数の材料を有する層を用いて基板をパターン化する方法	2019年 5月30日
特表 2019-511842	コロイドシリカ成長阻害剤及び関連する方法及びシステム	2019年 4月25日
特表 2019-511843	ウェハレスドライクリーニング発光分光法を使用するドライエッチングプロセス特徴の制御	2019年 4月25日

24 件中 1-15 件を表示

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2019-537254 2019-537266 2019-215562 2019-526939 2019-525483 2019-145792 2019-522906 2019-517742 2019-517743 2019-517026 2019-517137 2019-517154 2019-514066 2019-511842 2019-511843

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