特許ランキング - 出願人詳細情報 -

トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッド

※ ログインすれば出願人(トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第33742位　0件（2023年：第35905位　0件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第27650位　0件（2023年：第27627位　0件）

（ランキング更新日：2025年2月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年

トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-545648	高度なパルス制御を用いるリモートソースパルシング	2024年12月10日
特表 2024-542631	モリブデンをエッチングする方法	2024年11月15日
特表 2024-541810	プラズマエンハンスト膜形成方法	2024年11月13日
特表 2024-542124	ＥＵＶリソグラフィ用のＥＵＶ活性膜	2024年11月13日
特表 2024-541404	ストレッサ膜を使用する精密多軸フォトリソグラフィアライメント補正	2024年11月 8日
特表 2024-538953	ハロゲン化に基づくルテニウムＣＭＰ化学物質	2024年10月28日
特表 2024-539061	ルテニウムの湿式原子層エッチング方法	2024年10月28日
特表 2024-539246	銅の湿式原子層エッチングの方法	2024年10月28日
特表 2024-538741	無線周波数（ＲＦ）源及びバイアス信号波形を用いたプラズマ処理	2024年10月23日
特表 2024-537695	フィンガープリントに基づく半導体製造プロセス欠陥検出を使用する方法及びプロセス	2024年10月16日
特表 2024-535798	ＥＵＶレジストのハイブリッド現像	2024年10月 2日
特開 2024-127819	加熱／冷却ガス管を有するセラミックペデスタルシャフト	2024年 9月20日
特表 2024-532686	接合層及びその製造プロセス	2024年 9月10日
特表 2024-532834	半導体プラズマ処理チャンバ内の消耗部品の特性を計測するための光センサ	2024年 9月10日
特表 2024-531964	プラズマ処理のための装置	2024年 9月 3日

53 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2024-545648 2024-542631 2024-541810 2024-542124 2024-541404 2024-538953 2024-539061 2024-539246 2024-538741 2024-537695 2024-535798 2024-127819 2024-532686 2024-532834 2024-531964

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。トーキョー　エレクトロン　ユーエス　ホールディングス，インコーポレーテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数