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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第893位 32件
（
2015年：第867位 33件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第453位 63件
（
2015年：第532位 45件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5976527 | 蒸着マスク及びその製造方法 | 2016年 8月23日 | |
| 特許 5963194 | 露光装置 | 2016年 8月 3日 | |
| 特許 5958804 | 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び有機ＥＬ表示装置の製造方法 | 2016年 8月 2日 | |
| 特許 5958824 | 蒸着マスクの製造方法 | 2016年 8月 2日 | |
| 特許 5953512 | 光配向露光装置及び光配向露光方法 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5953566 | 薄膜パターン形成方法及び有機ＥＬ表示装置の製造方法 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5953037 | マイクロレンズアレイの貼り合わせ装置 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5953038 | マイクロレンズアレイの焦点距離測定装置及び方法 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5953071 | 偏光フィルム貼り合わせ装置 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5935101 | 薄膜パターン形成方法 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5935179 | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5935294 | 近接露光装置及び近接露光方法 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5928032 | キャリブレーション用マスクおよびキャリブレーション方法 | 2016年 6月 1日 | |
| 特許 5923764 | フィルム貼付装置 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5923765 | ガラス基板のレーザ加工装置 | 2016年 5月25日 |
64 件中 16-30 件を表示
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5976527 5963194 5958804 5958824 5953512 5953566 5953037 5953038 5953071 5935101 5935179 5935294 5928032 5923764 5923765
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