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株式会社ブイ・テクノロジー

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  2016年 出願公開件数ランキング    第893位 32件 下降2015年:第867位 33件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第453位 63件 上昇2015年:第532位 45件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 5923884 パルスレーザ発振器 2016年 5月25日
特許 5923885 パルスレーザ発振器及びパルスレーザ発振制御方法 2016年 5月25日
特許 5923918 偏光フィルムの貼付方法 2016年 5月25日
特許 5924021 偏光露光装置及び偏光露光方法 2016年 5月25日
特許 5904577 マスク成膜装置及びマスク成膜方法 2016年 4月13日
特許 5899574 基板矯正保持装置 2016年 4月 6日
特許 5899583 真空蒸着方法、真空蒸着装置、有機EL表示装置の製造方法及び有機EL表示装置 2016年 4月 6日
特許 5899584 真空蒸着方法、真空蒸着装置及び有機EL表示装置の製造方法 2016年 4月 6日
特許 5899585 マスクの製造方法 2016年 4月 6日
特許 5895275 アライメントマーク及び露光装置 2016年 3月30日
特許 5895276 アライメントマーク及び露光装置 2016年 3月30日
特許 5895382 薄膜パターン形成方法及び有機EL表示装置の製造方法 2016年 3月30日
特許 5895422 露光装置 2016年 3月30日
特許 5884120 フィルム露光装置 2016年 3月15日
特許 5884147 レーザアニール装置及びレーザアニール方法 2016年 3月15日

64 件中 31-45 件を表示

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5923884 5923885 5923918 5924021 5904577 5899574 5899583 5899584 5899585 5895275 5895276 5895382 5895422 5884120 5884147

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