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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第893位 32件
（
2015年：第867位 33件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第453位 63件
（
2015年：第532位 45件）
（ランキング更新日：2025年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5923884 | パルスレーザ発振器 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5923885 | パルスレーザ発振器及びパルスレーザ発振制御方法 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5923918 | 偏光フィルムの貼付方法 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5924021 | 偏光露光装置及び偏光露光方法 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5904577 | マスク成膜装置及びマスク成膜方法 | 2016年 4月13日 | |
| 特許 5899574 | 基板矯正保持装置 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5899583 | 真空蒸着方法、真空蒸着装置、有機ＥＬ表示装置の製造方法及び有機ＥＬ表示装置 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5899584 | 真空蒸着方法、真空蒸着装置及び有機ＥＬ表示装置の製造方法 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5899585 | マスクの製造方法 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5895275 | アライメントマーク及び露光装置 | 2016年 3月30日 | |
| 特許 5895276 | アライメントマーク及び露光装置 | 2016年 3月30日 | |
| 特許 5895382 | 薄膜パターン形成方法及び有機ＥＬ表示装置の製造方法 | 2016年 3月30日 | |
| 特許 5895422 | 露光装置 | 2016年 3月30日 | |
| 特許 5884120 | フィルム露光装置 | 2016年 3月15日 | |
| 特許 5884147 | レーザアニール装置及びレーザアニール方法 | 2016年 3月15日 |
64 件中 31-45 件を表示
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5923884 5923885 5923918 5924021 5904577 5899574 5899583 5899584 5899585 5895275 5895276 5895382 5895422 5884120 5884147
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