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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第865位 32件
（
2015年：第850位 32件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第453位 63件
（
2015年：第532位 45件）
（ランキング更新日：2026年10月23日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5923918 | 偏光フィルムの貼付方法 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5923885 | パルスレーザ発振器及びパルスレーザ発振制御方法 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5923765 | ガラス基板のレーザ加工装置 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5923764 | フィルム貼付装置 | 2016年 5月25日 | |
| 特許 5904577 | マスク成膜装置及びマスク成膜方法 | 2016年 4月13日 | |
| 特許 5899585 | マスクの製造方法 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5899584 | 真空蒸着方法、真空蒸着装置及び有機ＥＬ表示装置の製造方法 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5899583 | 真空蒸着方法、真空蒸着装置、有機ＥＬ表示装置の製造方法及び有機ＥＬ表示装置 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5899574 | 基板矯正保持装置 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5895382 | 薄膜パターン形成方法及び有機ＥＬ表示装置の製造方法 | 2016年 3月30日 | |
| 特許 5895275 | アライメントマーク及び露光装置 | 2016年 3月30日 | |
| 特許 5895276 | アライメントマーク及び露光装置 | 2016年 3月30日 | |
| 特許 5895422 | 露光装置 | 2016年 3月30日 | |
| 特許 5884543 | 薄膜パターン形成方法、マスクの製造方法及び有機ＥＬ表示装置の製造方法 | 2016年 3月15日 | |
| 特許 5884273 | 露光ユニット及び基板のプリアライメント方法 | 2016年 3月15日 |
64 件中 31-45 件を表示
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5923918 5923885 5923765 5923764 5904577 5899585 5899584 5899583 5899574 5895382 5895275 5895276 5895422 5884543 5884273
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