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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第893位 32件
（
2015年：第867位 33件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第453位 63件
（
2015年：第532位 45件）
（ランキング更新日：2025年6月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5884273 | 露光ユニット及び基板のプリアライメント方法 | 2016年 3月15日 | |
| 特許 5884543 | 薄膜パターン形成方法、マスクの製造方法及び有機ＥＬ表示装置の製造方法 | 2016年 3月15日 | |
| 特許 5874126 | フィルム露光装置 | 2016年 3月 2日 | |
| 特許 5874900 | 露光装置用のアライメント装置 | 2016年 3月 2日 | |
| 特許 5874965 | マイクロレンズアレイの貼り合わせ装置 | 2016年 3月 2日 | |
| 特許 5874966 | マイクロレンズアレイ及びその貼り合わせ方法 | 2016年 3月 2日 | |
| 特許 5861166 | ディスペンサ装置、パターン欠陥修正装置、ディスペンサの詰まり解消方法 | 2016年 2月16日 | |
| 特許 5853331 | レーザ照射装置及びそれを使用した液晶表示パネルの輝点修正方法 | 2016年 2月 9日 | |
| 特許 5853332 | レーザ用アッテネータ及びレーザ発生装置 | 2016年 2月 9日 | |
| 特許 5853333 | レーザードーピング方法及びレーザードーピング装置 | 2016年 2月 9日 | |
| 特許 5853334 | 露光装置 | 2016年 2月 9日 | |
| 特許 5853336 | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 | 2016年 2月 9日 | |
| 特許 5853343 | マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置 | 2016年 2月 9日 | |
| 特許 5842243 | 露光ヘッド及び露光装置 | 2016年 1月13日 | |
| 特許 5842251 | 露光装置及び露光済み材製造方法 | 2016年 1月13日 |
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5884273 5884543 5874126 5874900 5874965 5874966 5861166 5853331 5853332 5853333 5853334 5853336 5853343 5842243 5842251
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