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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第982位 31件
（
2016年：第893位 32件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第678位 35件
（2016年：第453位 63件）
（ランキング更新日：2025年3月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6142196 | 蒸着マスクの製造方法 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6142214 | 近接露光装置及び近接露光方法 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6142217 | 露光用基板搬送装置 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6142386 | 蒸着マスクの製造方法 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6142388 | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6142393 | 成膜マスク、成膜装置及び成膜方法並びにタッチパネル基板 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6142450 | 密着露光装置及び密着露光方法 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6142517 | 投影露光装置及び投影露光方法 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6143262 | 露光ヘッド及びその製造方法 | 2017年 6月 7日 | |
| 特許 6119035 | 露光装置 | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6095088 | マスクの製造方法、薄膜パターン形成方法及び有機ＥＬ表示装置の製造方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6095240 | 露光装置用光照射装置 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6086274 | 寸法測定装置 | 2017年 3月 1日 | |
| 特許 6086277 | パターン検査装置及びそれに使用する照明光学系 | 2017年 3月 1日 | |
| 特許 6086394 | 薄膜トランジスタ基板、表示パネル、レーザーアニール方法 | 2017年 3月 1日 |
35 件中 16-30 件を表示
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6142196 6142214 6142217 6142386 6142388 6142393 6142450 6142517 6143262 6119035 6095088 6095240 6086274 6086277 6086394
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