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株式会社ブイ・テクノロジー
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第982位 31件
（
2016年：第893位 32件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第678位 35件
（2016年：第453位 63件）
（ランキング更新日：2025年3月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ブイ・テクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6078741 | 薄膜パターン形成方法及びマスク | 2017年 2月15日 | |
| 特許 6078746 | 蒸着マスクの製造方法 | 2017年 2月15日 | |
| 特許 6078747 | 蒸着マスクの製造方法及びレーザ加工装置 | 2017年 2月15日 | |
| 特許 6078818 | 成膜マスク及び成膜マスクの製造方法 | 2017年 2月15日 | |
| 特許 6078843 | 光配向露光方法及び光配向露光装置 | 2017年 2月15日 |
35 件中 31-35 件を表示
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6078741 6078746 6078747 6078818 6078843
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