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ギガフォトン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第1441位 17件
（
2015年：第1659位 14件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第658位 38件
（2015年：第707位 31件）
（ランキング更新日：2025年5月8日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ギガフォトン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-58742 | 極端紫外光源装置用レーザ光源装置、及びレーザ光源装置 | 2016年 4月21日 | |
| 再表 2013-180007 | 極端紫外光生成装置および極端紫外光生成システム | 2016年 1月21日 |
17 件中 16-17 件を表示
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2016-58742 2013-180007
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