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ギガフォトン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第1441位 17件
（
2015年：第1659位 14件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第658位 38件
（2015年：第707位 31件）
（ランキング更新日：2025年3月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ギガフォトン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
特許 6054028
|
レーザ装置および極端紫外光生成システム | 2016年12月27日 | |
| 特許 6054067
|
ＥＵＶ光生成装置、ターゲット回収装置、および、ターゲット回収方法 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6055017
|
ターゲット供給装置、チャンバ装置および極端紫外光生成装置 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6038849
|
極端紫外光源装置及び極端紫外光の発生方法 | 2016年12月 7日 | |
| 特許 6034598
|
ＥＵＶ光生成装置の洗浄方法 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6021422
|
チャンバ装置 | 2016年11月 9日 | |
| 特許 6021454
|
極端紫外光生成装置および極端紫外光生成方法 | 2016年11月 9日 | |
| 特許 6022837
|
エキシマレーザ装置及びエキシマレーザシステム | 2016年11月 9日 | |
| 特許 5984132
|
ターゲット供給装置 | 2016年 9月 6日 | |
| 特許 5982137
|
ターゲット供給装置 | 2016年 8月31日 | |
| 特許 5964053
|
極端紫外光生成装置 | 2016年 8月 3日 | |
| 特許 5964400
|
極端紫外光源装置及びそのターゲット供給システム | 2016年 8月 3日 | |
| 特許 5955372
|
極端紫外光源装置 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5946612
|
ミラー、ミラー装置、レーザ装置および極端紫外光生成装置 | 2016年 7月 6日 | |
| 特許 5946649
|
ターゲット供給装置 | 2016年 7月 6日 |
38 件中 1-15 件を表示
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6054028 6054067 6055017 6038849 6034598 6021422 6021454 6022837 5984132 5982137 5964053 5964400 5955372 5946612 5946649
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