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ギガフォトン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第672位 45件
（
2020年：第872位 31件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第701位 31件
（
2020年：第547位 42件）
（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ギガフォトン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-60466 | 光学装置 | 2021年 4月15日 | |
| 再表 2019-186767 | 波長変換システム及び加工方法 | 2021年 4月 8日 | |
| 再表 2019-186651 | レーザガス管理システム、電子デバイスの製造方法及びエキシマレーザシステムの制御方法 | 2021年 3月25日 | |
| 再表 2019-175964 | 架台、極端紫外光生成システム、及びデバイスの製造方法 | 2021年 3月18日 | |
| 特開 2021-43402 | 極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法 | 2021年 3月18日 | |
| 再表 2019-102526 | 極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法 | 2021年 3月11日 | |
| 再表 2019-163029 | レーザシステム | 2021年 3月11日 | |
| 特開 2021-39321 | 極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法 | 2021年 3月11日 | |
| 特開 2021-26052 | 極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法 | 2021年 2月22日 | |
| 特開 2021-21760 | ＥＵＶチャンバ装置、極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法 | 2021年 2月18日 | |
| 特開 2021-18364 | 極端紫外光生成システム及び電子デバイスの製造方法 | 2021年 2月15日 | |
| 再表 2019-162994 | ターゲット供給装置、極端紫外光生成装置、電子デバイスの製造方法 | 2021年 2月12日 | |
| 再表 2019-146064 | 極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法 | 2021年 1月28日 | |
| 再表 2019-123611 | レーザ照射方法、及びレーザ照射システム | 2021年 1月21日 | |
| 再表 2019-146021 | レーザ加工方法及びレーザ加工システム | 2021年 1月14日 |
45 件中 31-45 件を表示
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2021-60466 2019-186767 2019-186651 2019-175964 2021-43402 2019-102526 2019-163029 2021-39321 2021-26052 2021-21760 2021-18364 2019-162994 2019-146064 2019-123611 2019-146021
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