特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ホールディング　エヌ．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ホールディング　エヌ．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2015年出願公開件数ランキング　　　第2640位　7件（2014年：　0件）

　■　2015年特許取得件数ランキング　　　第1610位　11件（2014年：　0件）

（ランキング更新日：2026年10月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

エーエスエムエル　ホールディング　エヌ．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2015-537239	パターニングデバイス操作システム及びリソグラフィ装置	2015年12月24日
特表 2015-536476	パターニングデバイス支持体、リソグラフィ装置及びパターニングデバイスの温度制御方法	2015年12月21日
特表 2015-535942	リアルタイムレチクル曲率検出	2015年12月17日
特表 2015-535953	定量的レチクル歪み測定システム	2015年12月17日
特表 2015-535954	位置測定装置、位置測定方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法	2015年12月17日
特表 2015-534131	パターニングデバイス支持体及びリソグラフィ装置	2015年11月26日
特表 2015-532465	マーク位置測定装置及び方法、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法	2015年11月 9日
特表 2015-531890	粘着性の表面を用いたレチクルクリーニング	2015年11月 5日
特表 2015-529351	レチクル加熱を均一に保つレチクルヒータ	2015年10月 5日
特開 2015-165324	時間差レチクル検査	2015年 9月17日
特表 2015-522843	リソグラフィ装置	2015年 8月 6日
特表 2015-520358	小型自蔵式ホログラフィ及び干渉計デバイス	2015年 7月16日
特表 2015-518654	位置測定方法、位置測定装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法並びに光学要素	2015年 7月 2日
特表 2015-518285	パターニングデバイスの表面からの位置及び曲率情報の直接的な判定	2015年 6月25日
特開 2015-99934	リソグラフィ装置およびデバイス製造方法	2015年 5月28日

16 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2015-537239 2015-536476 2015-535942 2015-535953 2015-535954 2015-534131 2015-532465 2015-531890 2015-529351 2015-165324 2015-522843 2015-520358 2015-518654 2015-518285 2015-99934

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数