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エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ．
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第3422位 5件
（
2016年：第7176位 2件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第5447位 2件
（
2016年：第1645位 12件）
（ランキング更新日：2026年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2017-224000 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2017年12月21日 | |
| 特表 2017-534077 | マスクアセンブリ | 2017年11月16日 | |
| 特表 2017-532587 | 放射をスペクトル的に拡大するための方法及び装置 | 2017年11月 2日 | |
| 特表 2017-530394 | 高開口数対物レンズシステム | 2017年10月12日 | |
| 特表 2017-528757 | 測定方法、測定装置、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2017年 9月28日 | |
| 特表 2017-526970 | 静電クランプおよびその製造方法 | 2017年 9月14日 | |
| 特表 2017-523477 | アライメントセンサおよびリソグラフィ装置 | 2017年 8月17日 | |
| 特表 2017-518478 | コンパクトな両側レチクル検査システム | 2017年 7月 6日 | |
| 特表 2017-516124 | パターニングデバイスの変型および／またはその位置の変化の推測 | 2017年 6月15日 | |
| 特表 2017-515148 | 基板支持体、基板支持ロケーションに基板を搭載するための方法、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2017年 6月 8日 | |
| 特表 2017-510232 | コイルアセンブリ、電磁アクチュエータ、ステージ位置決め装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2017年 4月 6日 | |
| 特開 2017-16157 | リソグラフィ装置 | 2017年 1月19日 |
12 件中 1-12 件を表示
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2017-224000 2017-534077 2017-532587 2017-530394 2017-528757 2017-526970 2017-523477 2017-518478 2017-516124 2017-515148 2017-510232 2017-16157
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