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エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ．
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第1714位 13件
（
2018年：第1833位 11件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第1539位 11件
（2018年：第3217位 4件）
（ランキング更新日：2026年11月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2019-532324 | 位置決めシステムおよびリソグラフィ装置 | 2019年11月 7日 | |
| 特表 2019-530894 | アライメントシステムの断熱化 | 2019年10月24日 | |
| 特表 2019-529970 | リソグラフィ装置及びサポート構造背景 | 2019年10月17日 | |
| 特表 2019-529969 | 装置マークのインシチュプリンティングを含む計測方法及び対応する装置 | 2019年10月17日 | |
| 特表 2019-529876 | 検査システムにおける合焦のための方法及びデバイス | 2019年10月17日 | |
| 特表 2019-526826 | 波面の可変コレクタ | 2019年 9月19日 | |
| 特表 2019-525227 | アライメント方法 | 2019年 9月 5日 | |
| 特開 2019-144599 | 基板支持体、基板支持ロケーションに基板を搭載するための方法、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2019年 8月29日 | |
| 特表 2019-522246 | 膜アセンブリおよび粒子トラップ | 2019年 8月 8日 | |
| 特表 2019-522236 | 基板ホルダ及び基板ホルダを製造する方法 | 2019年 8月 8日 | |
| 特表 2019-521395 | オーバーレイおよびクリティカルディメンションセンサにおける瞳照明のための方法およびデバイス | 2019年 7月25日 | |
| 特表 2019-521378 | インライン補正のための適応フィルタ | 2019年 7月25日 | |
| 特表 2019-519806 | アライメントシステムウェーハスタックビーム分析器 | 2019年 7月11日 | |
| 特表 2019-515328 | 欠陥検出のための画像処理畳み込みアルゴリズム | 2019年 6月 6日 | |
| 特表 2019-514064 | テーパ光ファイバを使用したスーパーコンティニューム生成による広域スペクトル放射 | 2019年 5月30日 |
22 件中 1-15 件を表示
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2019-532324 2019-530894 2019-529970 2019-529969 2019-529876 2019-526826 2019-525227 2019-144599 2019-522246 2019-522236 2019-521395 2019-521378 2019-519806 2019-515328 2019-514064
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