ホーム > 特許ランキング > エーエスエムエル ホールディング エヌ.ブイ. > 2024年 > 出願公開一覧
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第2708位 7件
(
2023年:第1639位 14件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第2208位 8件
(
2023年:第2184位 8件)
(ランキング更新日:2026年10月19日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-149560 | ペリクルに関連する状態を決定するための装置および方法 | 2024年10月18日 | |
| 特表 2024-531044 | フォトニック結晶又は高非線形ファイバにおける広帯域放射発生の改良 | 2024年 8月29日 | |
| 特開 2024-111212 | マスクアセンブリ | 2024年 8月16日 | |
| 特開 2024-109689 | アライメントマークの局所的な歪みに基づくアライメント信号の生成 | 2024年 8月14日 | |
| 特開 2024-109883 | アライメントマークを感知するための装置 | 2024年 8月14日 | |
| 特表 2024-526180 | リソグラフィ装置におけるレチクルの熱調節のためのシステム、方法、およびデバイス | 2024年 7月17日 | |
| 特表 2024-521551 | モジュール式ウェーハテーブル及びその製造方法 | 2024年 6月 3日 | |
| 特表 2024-520782 | 計測システム、時間および空間コヒーレンススクランブラ、およびそれらの方法 | 2024年 5月24日 | |
| 特表 2024-512198 | 光パルスを空間的にフィルタリングするための方法および装置 | 2024年 3月19日 | |
| 特表 2024-511313 | 支持面を変更するためのツール | 2024年 3月13日 | |
| 特表 2024-506526 | 汚染物質検出のシステム及び方法 | 2024年 2月14日 | |
| 特表 2024-504714 | 均一性ドリフトの高速補正 | 2024年 2月 1日 | |
| 特表 2024-503585 | リソグラフィアライメント装置における強度を測定するためのシステム及び方法 | 2024年 1月26日 | |
| 特表 2024-500380 | リソグラフィ装置、メトロロジシステム、及びそれらの方法 | 2024年 1月 9日 |
14 件中 1-14 件を表示
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2024-149560 2024-531044 2024-111212 2024-109689 2024-109883 2024-526180 2024-521551 2024-520782 2024-512198 2024-511313 2024-506526 2024-504714 2024-503585 2024-500380
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