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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第7297位 2件
(2015年:第2742位 7件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第1645位 12件
(2015年:第1611位 11件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2016-539356 | 偏光非依存干渉計 | 2016年12月15日 | |
特開 2016-212363 | リソグラフィ装置のレチクル冷却システム | 2016年12月15日 | |
特開 2016-177244 | リソグラフィ装置における加熱システムおよび冷却システム | 2016年10月 6日 | |
特開 2016-153918 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2016年 8月25日 | |
特表 2016-509258 | リソグラフィ装置及び方法 | 2016年 3月24日 | |
特表 2016-508236 | レチクルステージ環境におけるガス流れ最適化 | 2016年 3月17日 |
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2016-539356 2016-212363 2016-177244 2016-153918 2016-509258 2016-508236
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3月24日(月) -
3月25日(火) - 東京 品川区
3月25日(火) -
3月26日(水) - 東京 港区
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
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