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エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ．
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第2380位 8件
（
2019年：第1714位 13件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第1660位 10件
（2019年：第1539位 11件）
（ランキング更新日：2026年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2020-535431 | 検査装置のための光学配置 | 2020年12月 3日 | |
| 特開 2020-181212 | マスクアセンブリ | 2020年11月 5日 | |
| 特表 2020-528168 | 粒子トラップおよび粒子抑制用バリア | 2020年 9月17日 | |
| 特表 2020-521157 | 基板及び基板を使用する方法 | 2020年 7月16日 | |
| 特表 2020-521159 | アライメントシステムにおける２次元アライメントのためのアライメントマーク | 2020年 7月16日 | |
| 特表 2020-519927 | メトロロジセンサ、リソグラフィ装置、及びデバイスを製造するための方法 | 2020年 7月 2日 | |
| 特表 2020-518786 | 複数イメージ粒子検出のシステム及び方法 | 2020年 6月25日 | |
| 特表 2020-518845 | 光学メトロロジの性能を測定するための方法、基板、及び装置 | 2020年 6月25日 | |
| 特表 2020-515912 | 反射防止コーティング | 2020年 5月28日 | |
| 特表 2020-507806 | レチクルクランプデバイス | 2020年 3月12日 | |
| 特表 2020-503539 | メトロロジツール及びメトロロジツールを使用する方法 | 2020年 1月30日 | |
| 特開 2020-13140 | リソグラフィ装置 | 2020年 1月23日 |
12 件中 1-12 件を表示
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2020-535431 2020-181212 2020-528168 2020-521157 2020-521159 2020-519927 2020-518786 2020-518845 2020-515912 2020-507806 2020-503539 2020-13140
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