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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第1719位 14件
（
2018年：第1542位 15件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第824位 25件
（
2018年：第1592位 11件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6538701 | 窒化チタン及びチタン／窒化チタン除去の抑制に関するＣＭＰ方法 | 2019年 7月 3日 | |
| 特許 6530401 | 窒化ケイ素の選択的な除去のためのＣＭＰ組成物及び方法 | 2019年 6月12日 | |
| 特許 6522601 | オフセットした同心の溝のパターンの端部除外領域を有するＣＭＰ研磨パッド | 2019年 5月29日 | |
| 特許 6523348 | コロイダルシリカ化学機械研磨濃縮物 | 2019年 5月29日 | |
| 特許 6517802 | 低密度研磨パッド | 2019年 5月22日 | |
| 特許 6491245 | コロイダルシリカ化学機械研磨組成物 | 2019年 3月27日 | |
| 特許 6466925 | 基材の研磨用の湿式法セリア組成物および関連する方法 | 2019年 2月 6日 | |
| 特許 6466974 | 化学機械研磨組成物の製造方法 | 2019年 2月 6日 | |
| 特許 6462013 | コロイダルシリカ化学機械研磨組成物 | 2019年 1月30日 | |
| 特許 6457511 | 酸化ケイ素、窒化ケイ素及びポリシリコン材料のＣＭＰ用組成物及び方法 | 2019年 1月23日 |
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6538701 6530401 6522601 6523348 6517802 6491245 6466925 6466974 6462013 6457511
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12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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