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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第1771位 13件
（
2015年：第1576位 15件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第1440位 14件
（2015年：第1350位 14件）
（ランキング更新日：2025年3月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6030703 | 誘電性ＣＭＰスラリーにおけるＣｓＯＨの使用 | 2016年11月24日 | |
| 特許 6014050 | 改善されたＰＳＤ性能を有するシリコン研磨用組成物 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6010020 | バルクシリコンの研磨組成物及び研磨方法 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6010043 | ポリシリコンの研磨用組成物及び研磨方法 | 2016年10月19日 | |
| 特許 5992925 | 金属を不動態化する化学機械研磨用組成物及び方法 | 2016年 9月14日 | |
| 特許 5986146 | 基板を化学機械的に研磨加工する方法 | 2016年 9月 6日 | |
| 特許 5986268 | 化学機械的研磨のための透明な多孔性材料 | 2016年 9月 6日 | |
| 特許 5964795 | 両親媒性非イオン性界面活性剤を利用したＣＭＰ法 | 2016年 8月 3日 | |
| 特許 5960386 | イオン性高分子電解質を含有する銅ＣＭＰ組成物及び方法 | 2016年 8月 2日 | |
| 特許 5952352 | シリコン含有基材を研磨するための方法及び組成物 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5937558 | ＬＯＷ−Ｋ誘電体材料のＣＭＰ用組成物及び方法 | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5918254 | 透過性領域を含む研磨パッド | 2016年 5月18日 | |
| 特許 5882947 | 化学機械的研磨のための透明な多孔性材料 | 2016年 3月 9日 | |
| 特許 5856256 | ニッケル−リン記憶ディスク用の研磨組成物 | 2016年 2月 9日 |
14 件中 1-14 件を表示
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6030703 6014050 6010020 6010043 5992925 5986146 5986268 5964795 5960386 5952352 5937558 5918254 5882947 5856256
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