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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション

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 ■ 2016年 出願公開件数ランキング    第1721位 13件 (下降2015年:第1502位 15件)

 ■ 2016年 特許取得件数ランキング    第1438位 14件 (下降2015年:第1349位 14件)

(ランキング更新日:2026年10月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6030703 誘電性CMPスラリーにおけるCsOHの使用 2016年11月24日
特許 6014050 改善されたPSD性能を有するシリコン研磨用組成物 2016年10月25日
特許 6010020 バルクシリコンの研磨組成物及び研磨方法 2016年10月19日
特許 6010043 ポリシリコンの研磨用組成物及び研磨方法 2016年10月19日
特許 5992925 金属を不動態化する化学機械研磨用組成物及び方法 2016年 9月14日
特許 5986146 基板を化学機械的に研磨加工する方法 2016年 9月 6日
特許 5986268 化学機械的研磨のための透明な多孔性材料 2016年 9月 6日
特許 5964795 両親媒性非イオン性界面活性剤を利用したCMP法 2016年 8月 3日
特許 5960386 イオン性高分子電解質を含有する銅CMP組成物及び方法 2016年 8月 2日
特許 5952352 シリコン含有基材を研磨するための方法及び組成物 2016年 7月13日
特許 5937558 LOW−K誘電体材料のCMP用組成物及び方法 2016年 6月22日
特許 5918254 透過性領域を含む研磨パッド 2016年 5月18日
特許 5882947 化学機械的研磨のための透明な多孔性材料 2016年 3月 9日
特許 5856256 ニッケル−リン記憶ディスク用の研磨組成物 2016年 2月 9日

14 件中 1-14 件を表示

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6030703 6014050 6010020 6010043 5992925 5986146 5986268 5964795 5960386 5952352 5937558 5918254 5882947 5856256

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