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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第1542位 15件
（
2017年：第1110位 27件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第1592位 11件
（
2017年：第1630位 11件）
（ランキング更新日：2025年1月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6434501 | 酸化物および窒化物に選択的な高除去速度および低欠陥を有するＣＭＰ組成物 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6415521 | 低密度研磨パッド | 2018年10月31日 | |
| 特許 6392913 | 研磨組成物およびアミノシランを用いて処理された研削剤粒子の使用方法 | 2018年 9月19日 | |
| 特許 6382932 | 固体含有率の低いＣＭＰ組成物及びそれに関する方法 | 2018年 8月29日 | |
| 特許 6367833 | ジルコニアおよび金属酸化剤を含む化学機械研磨組成物 | 2018年 8月 1日 | |
| 特許 6359050 | 同心または略同心の多角形溝パターンを有する研磨パッドを加工する方法 | 2018年 7月18日 | |
| 特許 6336997 | オフセットした同心の溝のパターンを有する研磨パッドおよびそれを用いて基材を研磨するための方法 | 2018年 6月 6日 | |
| 特許 6309453 | 下地層および研磨表面層を有する研磨パッド | 2018年 4月11日 | |
| 特許 6309559 | 上に別個の突起を有する均一な本体を有する研磨パッド | 2018年 4月11日 | |
| 特許 6280254 | 研磨組成物およびアミノシランを用いて処理された研削剤粒子の使用方法 | 2018年 2月14日 | |
| 特許 6272842 | モリブデン研磨のための組成物および方法 | 2018年 1月31日 |
11 件中 1-11 件を表示
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6434501 6415521 6392913 6382932 6367833 6359050 6336997 6309453 6309559 6280254 6272842
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