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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第4398位 4件
（
2020年：第2497位 8件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第1299位 14件
（
2020年：第1368位 13件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6974336 | ＩＩＩ−Ｖ族材料の研磨方法 | 2021年12月 1日 | |
| 特許 6940491 | ディッシング改善用のコバルトインヒビターの組合せ | 2021年 9月29日 | |
| 特許 6936233 | カチオン重合体助剤を含む研磨組成物 | 2021年 9月15日 | |
| 特許 6927982 | 触媒を含むタングステン処理スラリー | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6928040 | 銅バリアの化学機械研磨組成物 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6930976 | 低Ｋ基板の研磨方法 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6920306 | アルキルアミン及びシクロデキストリンを含むＣＭＰ処理組成物 | 2021年 8月18日 | |
| 特許 6889156 | カチオン性界面活性剤を含むタングステン処理スラリー | 2021年 6月18日 | |
| 特許 6879995 | 誘電体基板を加工するための方法及び組成物 | 2021年 6月 2日 | |
| 特許 6829197 | ＳＴＩウエハーの研磨にてディッシングの低減を示すＣＭＰ組成物 | 2021年 2月10日 | |
| 特許 6822966 | 窒化ケイ素の除去のためのＣＭＰ組成物 | 2021年 1月27日 | |
| 特許 6810992 | 液状充填材を含むポロゲンを有する研磨パッド | 2021年 1月13日 | |
| 特許 6810029 | 腐食抑制剤及び関連組成物並びに方法 | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6810047 | 低密度研磨パッド | 2021年 1月 6日 |
14 件中 1-14 件を表示
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6974336 6940491 6936233 6927982 6928040 6930976 6920306 6889156 6879995 6829197 6822966 6810992 6810029 6810047
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