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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1110位 27件
（
2016年：第1771位 13件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1630位 11件
（
2016年：第1440位 14件）
（ランキング更新日：2026年1月23日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6251262 | ＧＳＴ用ＣＭＰスラリー | 2017年12月20日 | |
| 特許 6251271 | ポリピロリドン研磨組成物および研磨方法 | 2017年12月20日 | |
| 特許 6224693 | 光に安定な光透過領域を有する研磨パッド | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6215919 | ジルコニア粒子を含むＣＭＰ組成物および使用方法 | 2017年10月18日 | |
| 特許 6209628 | 透明下地層の上方に開口部または開放部を有する研磨表面層を伴う研磨パッド | 2017年10月 4日 | |
| 特許 6200530 | 下地層および研磨表面層を有する研磨パッド | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6189952 | 窒化ケイ素材料の選択的な研磨のための組成物および方法 | 2017年 8月30日 | |
| 特許 6158777 | 研磨組成物およびアミノシランを用いて処理された研削剤粒子の使用方法 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6130380 | アルミニウム半導体基材研摩用の組成物および研磨方法 | 2017年 5月17日 | |
| 特許 6092954 | 酸化に対して安定化されたＣＭＰ組成物及びＣＭＰ方法 | 2017年 3月 8日 | |
| 特許 6082097 | 酸化物および窒化物に選択的な高除去速度および低欠陥のＣＭＰ組成物 | 2017年 2月15日 |
11 件中 1-11 件を表示
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6251262 6251271 6224693 6215919 6209628 6200530 6189952 6158777 6130380 6092954 6082097
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