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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第1719位 14件
（
2018年：第1542位 15件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第824位 25件
（
2018年：第1592位 11件）
（ランキング更新日：2025年3月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-206718 | 銅バリアの化学機械研磨組成物 | 2019年12月 5日 | |
| 特開 2019-171567 | 独立気泡構造を有する超高空隙体積研磨パッド | 2019年10月10日 | |
| 特表 2019-527468 | コバルトＣＭＰ用の代替的な酸化剤 | 2019年 9月26日 | |
| 特表 2019-525972 | アミン含有界面活性剤を含むポリッシング加工用組成物 | 2019年 9月12日 | |
| 特開 2019-130664 | オフセットした同心の溝のパターンの端部除外領域を有するＣＭＰ研磨パッド | 2019年 8月 8日 | |
| 特開 2019-77036 | 低密度研磨パッド | 2019年 5月23日 | |
| 特表 2019-512866 | ＩＩＩ−Ｖ族材料の研磨方法 | 2019年 5月16日 | |
| 特表 2019-510364 | カチオン重合体助剤を含む研磨組成物 | 2019年 4月11日 | |
| 特表 2019-508525 | 触媒を含むタングステン処理スラリー | 2019年 3月28日 | |
| 特表 2019-508880 | 低Ｋ基板の研磨方法 | 2019年 3月28日 | |
| 特表 2019-507207 | アルキルアミン及びシクロデキストリンを含むＣＭＰ処理組成物 | 2019年 3月14日 | |
| 特表 2019-502252 | カチオン性界面活性剤及びシクロデキストリンを含むタングステン処理スラリー | 2019年 1月24日 | |
| 特表 2019-501511 | ディッシング改善用のコバルトインヒビターの組合せ | 2019年 1月17日 | |
| 特表 2019-501517 | カチオン性界面活性剤を含むタングステン処理スラリー | 2019年 1月17日 |
14 件中 1-14 件を表示
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2019-206718 2019-171567 2019-527468 2019-525972 2019-130664 2019-77036 2019-512866 2019-510364 2019-508525 2019-508880 2019-507207 2019-502252 2019-501511 2019-501517
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