特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション

※ ログインすれば出願人(キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第1719位　14件（2018年：第1542位　15件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第824位　25件（2018年：第1592位　11件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2019-206718	銅バリアの化学機械研磨組成物	2019年12月 5日
特開 2019-171567	独立気泡構造を有する超高空隙体積研磨パッド	2019年10月10日
特表 2019-527468	コバルトＣＭＰ用の代替的な酸化剤	2019年 9月26日
特表 2019-525972	アミン含有界面活性剤を含むポリッシング加工用組成物	2019年 9月12日
特開 2019-130664	オフセットした同心の溝のパターンの端部除外領域を有するＣＭＰ研磨パッド	2019年 8月 8日
特開 2019-77036	低密度研磨パッド	2019年 5月23日
特表 2019-512866	ＩＩＩ−Ｖ族材料の研磨方法	2019年 5月16日
特表 2019-510364	カチオン重合体助剤を含む研磨組成物	2019年 4月11日
特表 2019-508525	触媒を含むタングステン処理スラリー	2019年 3月28日
特表 2019-508880	低Ｋ基板の研磨方法	2019年 3月28日
特表 2019-507207	アルキルアミン及びシクロデキストリンを含むＣＭＰ処理組成物	2019年 3月14日
特表 2019-502252	カチオン性界面活性剤及びシクロデキストリンを含むタングステン処理スラリー	2019年 1月24日
特表 2019-501511	ディッシング改善用のコバルトインヒビターの組合せ	2019年 1月17日
特表 2019-501517	カチオン性界面活性剤を含むタングステン処理スラリー	2019年 1月17日

14 件中 1-14 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2019-206718 2019-171567 2019-527468 2019-525972 2019-130664 2019-77036 2019-512866 2019-510364 2019-508525 2019-508880 2019-507207 2019-502252 2019-501511 2019-501517

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数