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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第2380位 8件
（
2019年：第1621位 14件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第1368位 13件
（2019年：第823位 25件）
（ランキング更新日：2026年10月19日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6805191 | 下地層および研磨表面層を有する研磨パッド | 2020年12月23日 | |
| 特許 6800411 | 洗浄用組成物及びＣＭＰ後の半導体ウエハーの洗浄方法 | 2020年12月16日 | |
| 特許 6800418 | アルミニウムの研磨のためのＣＭＰスラリー組成物及び方法 | 2020年12月16日 | |
| 特許 6799000 | カチオン性ポリマー添加剤を含む研磨組成物 | 2020年12月 9日 | |
| 特許 6760955 | セリア粒子を含有する研磨組成物及び使用方法 | 2020年 9月23日 | |
| 特許 6751015 | 銅の化学的機械的平坦化後のための水性清浄化組成物 | 2020年 9月 2日 | |
| 特許 6748096 | セリア研磨剤を含有する研磨組成物 | 2020年 8月26日 | |
| 特許 6723995 | コバルトディッシング制御剤 | 2020年 7月15日 | |
| 特許 6693875 | 独立気泡構造を有する超高空隙体積研磨パッド | 2020年 5月13日 | |
| 特許 6649266 | タングステンＣＭＰのための組成物 | 2020年 2月19日 | |
| 特許 6646051 | コバルト研磨促進剤 | 2020年 2月14日 | |
| 特許 6640854 | 化学機械研磨のためのコーティングされた圧縮サブパッド | 2020年 2月 5日 | |
| 特許 6633540 | 混合研磨剤タングステンＣＭＰ組成物 | 2020年 1月22日 |
13 件中 1-13 件を表示
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6805191 6800411 6800418 6799000 6760955 6751015 6748096 6723995 6693875 6649266 6646051 6640854 6633540
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