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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション

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  2020年 出願公開件数ランキング    第2497位 8件 下降2019年:第1719位 14件)

  2020年 特許取得件数ランキング    第1368位 13件 下降2019年:第824位 25件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6805191 下地層および研磨表面層を有する研磨パッド 2020年12月23日
特許 6800411 洗浄用組成物及びCMP後の半導体ウエハーの洗浄方法 2020年12月16日
特許 6800418 アルミニウムの研磨のためのCMPスラリー組成物及び方法 2020年12月16日
特許 6799000 カチオン性ポリマー添加剤を含む研磨組成物 2020年12月 9日
特許 6760955 セリア粒子を含有する研磨組成物及び使用方法 2020年 9月23日
特許 6751015 銅の化学的機械的平坦化後のための水性清浄化組成物 2020年 9月 2日
特許 6748096 セリア研磨剤を含有する研磨組成物 2020年 8月26日
特許 6723995 コバルトディッシング制御剤 2020年 7月15日
特許 6693875 独立気泡構造を有する超高空隙体積研磨パッド 2020年 5月13日
特許 6649266 タングステンCMPのための組成物 2020年 2月19日
特許 6646051 コバルト研磨促進剤 2020年 2月14日
特許 6640854 化学機械研磨のためのコーティングされた圧縮サブパッド 2020年 2月 5日
特許 6633540 混合研磨剤タングステンCMP組成物 2020年 1月22日

13 件中 1-13 件を表示

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6805191 6800411 6800418 6799000 6760955 6751015 6748096 6723995 6693875 6649266 6646051 6640854 6633540

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